第一章 绪论 | 第1-18页 |
·金刚石的晶体结构 | 第7-8页 |
·金刚石膜的性质及应用 | 第8-10页 |
·天然金刚石-高压合成金刚石-气相沉积金刚石 | 第10-11页 |
·金刚石气相沉积方法介绍 | 第11-15页 |
·本文的选题及主要内容 | 第15-18页 |
第二章 实验设备和实验方法 | 第18-25页 |
·微波 PCVD 方法制备金刚石膜介绍 | 第18-19页 |
·微波 PCVD 沉积系统简介 | 第19-22页 |
·微波 PCVD 法制备金刚石膜的工艺 | 第22-25页 |
第三章 微波PCVD 法高品质金刚石膜的生长特性研究 | 第25-41页 |
·引言 | 第25-26页 |
·碳源浓度对金刚石膜特性的影响 | 第26-31页 |
·微波功率对金刚石膜特性的影响 | 第31-36页 |
·氧气对金刚石膜特性的影响 | 第36-39页 |
·本章小结 | 第39-41页 |
第四章 光学级透明金刚石膜的性质研究 | 第41-52页 |
·光学级透明金刚石膜简介 | 第41-43页 |
·金刚石膜光透过率理论极限值的计算 | 第43-46页 |
·透明金刚石膜红外透过率的研究 | 第46-49页 |
·透明金刚石膜紫外-可见光透过率的研究 | 第49-50页 |
·透明金刚石的其它性质 | 第50-52页 |
第五章 透明金刚石膜中杂质情况的研究 | 第52-60页 |
·X 射线光电子能谱(XPS)测试 | 第52-57页 |
·顺磁共振测试 | 第57-60页 |
第六章 总结 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-65页 |
摘要 | 第65-68页 |
Abstract | 第68-72页 |
致 谢 | 第72-73页 |
导师及作者简介 | 第73页 |