光刻胶全息光栅掩模槽形的控制和检测
| 学位论文独创性声明 | 第1页 |
| 学位论文使用授权声明 | 第2-3页 |
| 中文提要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-11页 |
| ·衍射光栅制作简介 | 第7页 |
| ·研究内容、目的和意义 | 第7-8页 |
| ·国内外研究状况 | 第8-9页 |
| ·研究的工作情况 | 第9-11页 |
| 第二章 光刻胶感光显影特性研究 | 第11-17页 |
| ·光刻胶特性理论 | 第11-13页 |
| ·光刻胶特性实验研究 | 第13-17页 |
| 第三章 曝光和显影对光刻胶掩模槽形的影响 | 第17-35页 |
| ·光刻胶光栅曝光模型 | 第17-19页 |
| ·光刻胶光栅显影模型 | 第19-20页 |
| ·光刻胶光栅槽形的实验与模拟 | 第20-24页 |
| ·曝光量、显影时间对槽形的影响 | 第24-26页 |
| ·显影浓度对槽形的影响 | 第26页 |
| ·光栅空频对槽形的影响 | 第26-27页 |
| ·镀铬对槽形的影响 | 第27-30页 |
| ·误差分析 | 第30-33页 |
| ·结论 | 第33-35页 |
| 第四章 实时显影监测 | 第35-49页 |
| ·基本原理 | 第35页 |
| ·严格耦合波理论分析 | 第35-41页 |
| ·显影监测实验与模拟 | 第41-47页 |
| ·掩模槽形的控制方法 | 第47-48页 |
| ·结论 | 第48-49页 |
| 第五章 镀铬光刻胶掩模槽形的检测 | 第49-58页 |
| ·引言 | 第49-50页 |
| ·基本原理 | 第50-55页 |
| ·实验结果与分析 | 第55-57页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 中文详细摘要 | 第63-65页 |
