| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-20页 |
| ·铁电材料概述 | 第7页 |
| ·铁电材料的分类 | 第7-10页 |
| ·铁电薄膜的应用 | 第10-11页 |
| ·PZT铁电薄膜的研究现状与进展 | 第11-16页 |
| ·铁电薄膜的特性退变研究 | 第11-13页 |
| ·高择优取向PZT铁电薄膜的制备研究 | 第13-14页 |
| ·PZT铁电薄膜的低温生长技术研究 | 第14-16页 |
| ·本课题研究的主要内容及意义 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-20页 |
| 第二章 铁电薄膜的制备方法及及其测试技术 | 第20-33页 |
| ·铁电薄膜制备方法 | 第20-26页 |
| ·脉冲激光熔蒸(Pulsed Laser Ablation) | 第20页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第20-22页 |
| ·溶胶-凝胶工艺(Sol-Gel) | 第22页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第22-23页 |
| ·溅射法 | 第23-26页 |
| ·CKJ-500D多靶磁控溅射镀膜系统 | 第26-27页 |
| ·分析薄膜结构和参数的常用技术手段 | 第27-31页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第27-28页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第28-29页 |
| ·椭偏仪 | 第29-31页 |
| ·铁电综合测试系统 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-33页 |
| 第三章 LNO薄膜电极的制备及其结构 | 第33-37页 |
| ·LNO薄膜的制备 | 第33-34页 |
| ·LNO薄膜的热处理 | 第34页 |
| ·LNO薄膜的结构 | 第34-36页 |
| ·LNO薄膜的结晶取向 | 第34-35页 |
| ·LNO薄膜的表面形貌 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第四章 PZT铁电薄膜的低温生长及其结构与电学性能 | 第37-54页 |
| ·PZT铁电薄膜的低温生长工艺 | 第37-38页 |
| ·PZT铁电薄膜的结构 | 第38-42页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 PZT铁电薄膜的微观结构 | 第38-40页 |
| ·原子力显微镜测试样品表面形貌 | 第40-42页 |
| ·PZT铁电薄膜的电学特性 | 第42-53页 |
| ·Ag顶电极的制备 | 第43页 |
| ·PZT薄膜的电学性能 | 第43-53页 |
| ·本章小结 | 第53页 |
| 参考文献 | 第53-54页 |
| 第五章 实验的主要结论及研究工作展望 | 第54-55页 |
| ·实验的主要结论 | 第54页 |
| ·研究工作展望 | 第54-55页 |
| 硕士期间发表的主要论文 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |
