| 图目录 | 第1-8页 |
| 表目录 | 第8-9页 |
| 摘要 | 第9-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 第一章 前言 | 第12-25页 |
| ·锂离子电池发展概况 | 第12-13页 |
| ·锂离子薄膜电池的国内外发展概况 | 第13-20页 |
| ·锂离子薄膜电池的提出 | 第13-15页 |
| ·薄膜锂离子电池发展历程 | 第15-19页 |
| ·阴极膜发展概况 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射技术 | 第20-23页 |
| ·磁控溅射简介 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射原理 | 第21-22页 |
| ·直流溅射与射频溅射 | 第22-23页 |
| ·反应溅射 | 第23页 |
| ·本课题的主要研究内容和目的 | 第23-25页 |
| ·研究目的 | 第23-24页 |
| ·主要研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 LICoO_2靶材的制备研究 | 第25-39页 |
| ·实验部分 | 第25-29页 |
| ·实验仪器及装置 | 第25-26页 |
| ·实验方法 | 第26-27页 |
| ·分析测试方法 | 第27-29页 |
| ·结果与分析 | 第29-38页 |
| ·靶材的热压法制备 | 第29-31页 |
| ·靶材的冷压烧结法制备 | 第31-33页 |
| ·热压烧结靶材和冷压烧结靶材性能对比 | 第33-38页 |
| ·结论 | 第38-39页 |
| 第三章 LICoO_2薄膜的制备与研究 | 第39-70页 |
| ·LiCoO_2的结构与性能 | 第39-40页 |
| ·实验部分 | 第40-45页 |
| ·实验仪器及装置 | 第40-41页 |
| ·实验方法 | 第41-44页 |
| ·分析测试方法 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-69页 |
| ·Ar气为溅射气体正交分析 | 第45-49页 |
| ·不同比率Ar/O_2溅射气氛对LiCoO_2薄膜制备的影响 | 第49-51页 |
| ·固定Ar/O_2溅射气氛正交分析对LiCoO_2薄膜制备的影响 | 第51-55页 |
| ·Ar、O_2混合气溅射不同厚度薄膜比较 | 第55-57页 |
| ·Ar气溅射和Ar、O_2混合气溅射薄膜比较 | 第57-64页 |
| ·退火温度对薄膜性质的影响 | 第64-68页 |
| ·退火时间对薄膜性质的影响 | 第68-69页 |
| ·结论 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 致 谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-79页 |
| 附录 1 | 第79页 |