| 第一章 文献综述 | 第1-32页 |
| ·纳米SiO_2的结构及特性 | 第9-10页 |
| ·纳米SiO_2的结构 | 第9-10页 |
| ·纳米SiO_2的特性 | 第10页 |
| ·纳米SiO_2制备的研究进展 | 第10-12页 |
| ·纳米SiO_2应用的研究进展 | 第12-17页 |
| ·纳米粉体分散的研究概况 | 第17-23页 |
| ·纳米粉体在液相中的分散 | 第17-21页 |
| ·纳米粉体分散方式 | 第21-23页 |
| ·纳米SiO_2表面改性的研究进展 | 第23-26页 |
| ·纳米SiO_2浆料CMP研究进展 | 第26-29页 |
| ·CMP技术的发展 | 第26-27页 |
| ·纳米SiO_2浆料制备的研究现状 | 第27-29页 |
| ·硅片的电化学研究进展 | 第29-31页 |
| ·本论文的研究内容与意义 | 第31-32页 |
| 第二章 实验方法 | 第32-38页 |
| ·实验原料 | 第32页 |
| ·实验原料的来源 | 第32页 |
| ·实验原料的制备 | 第32页 |
| ·实验试剂 | 第32-33页 |
| ·实验仪器与设备 | 第33页 |
| ·实验方法 | 第33-38页 |
| ·纳米SiO_2在水相体系中的润湿性测定 | 第33-35页 |
| ·纳米SiO_2浆料分散稳定性测定 | 第35页 |
| ·表面活性剂在纳米SiO_2表面上的吸附量测定 | 第35页 |
| ·纳米SiO_2在不同条件水相体系中的ζ电位测定 | 第35-36页 |
| ·纳米SiO_2浆料密度的测定 | 第36页 |
| ·纳米SiO_2浆料粘度的测定 | 第36页 |
| ·半导体硅片在纳米SiO_2浆料中的电化学行为测定 | 第36-38页 |
| 第三章 纳米SiO_2浆料分散稳定性的研究 | 第38-54页 |
| ·纳米SiO_2的性质及表征 | 第38-40页 |
| ·纳米SiO_2的性质 | 第38-40页 |
| ·纳米SiO_2 XRD分析 | 第40页 |
| ·纳米SiO_2在水相体系中的润湿行为 | 第40-41页 |
| ·纳米SiO_2在水相体系中的分散行为 | 第41-53页 |
| ·纳米SiO_2在水相体系中的自然聚沉现象 | 第41页 |
| ·pH值对纳米SiO_2浆料分散稳定性的影响 | 第41-43页 |
| ·表面活性剂对纳米SiO_2浆料分散稳定性的影响 | 第43-50页 |
| ·超声波分散时间对纳米SiO_2浆料分散稳定性的影响 | 第50-52页 |
| ·纳米SiO_2浆料粘度和吸光度与浓度的关系 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 纳米SiO_2浆料分散稳定的机理研究 | 第54-70页 |
| ·分散与聚团理论研究 | 第54-62页 |
| ·静电力(Electrostatic Force) | 第54-57页 |
| ·电位的计算 | 第57-58页 |
| ·质点间的双电层排斥作用能 | 第58-59页 |
| ·质点间的van der Waals吸引作用能 | 第59-61页 |
| ·扩展的DLVO理论(EDLVO理论) | 第61-62页 |
| ·位能计算 | 第62-69页 |
| ·纳米SiO_2在水相体系中的位能计算 | 第62-63页 |
| ·加入表面活性剂后纳米SiO_2浆料的位能计算 | 第63-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 纳米SiO_2浆料对硅片的电化学作用 | 第70-78页 |
| ·硅片的电化学反应 | 第70页 |
| ·纳米SiO_2浆料pH值对硅片表面腐蚀的影响 | 第70-73页 |
| ·纳米SiO_2浆料pH值对硅片表面交流阻抗的影响 | 第73-75页 |
| ·电化学测试结果在CMP加工中的应用 | 第75-77页 |
| ·本章小结 | 第77-78页 |
| 第六章 结论 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-87页 |
| 致谢 | 第87-88页 |
| 攻读硕士学位期间主要的研究成果 | 第88页 |
