| 摘要 | 第1-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 目录 | 第4-7页 |
| 第一章 引言 | 第7-9页 |
| 第二章 文献综述 | 第9-39页 |
| 2． 1 TiO_2薄膜光催化和亲水性研究背景 | 第9-10页 |
| 2． 2 光催化和亲水性的机理 | 第10-14页 |
| 2． 3 TiO_2薄膜的制备技术 | 第14-19页 |
| 2． 3． 1 溶胶-凝胶法(Sol-gel) | 第14-15页 |
| 2． 3． 2 物理气相沉积(physicalvapourdeposition) | 第15-16页 |
| 2． 3． 3 化学气相沉积(chemicalvapourdeposition) | 第16-19页 |
| 2． 4 光催化和亲水性能的影响因素 | 第19-24页 |
| 2． 4． 1 光催化性能的影响因素 | 第19-21页 |
| 2． 4． 2 亲水性的影响因素 | 第21-24页 |
| 2． 5 复合和掺杂对TiO_2光催化性能的改进 | 第24-27页 |
| 2． 5． 1 贵金属的掺杂(Pt、Ag、Rh) | 第24-25页 |
| 2． 5． 2 复合半导体 | 第25页 |
| 2． 5． 3 过渡金属掺杂 | 第25-26页 |
| 2． 5． 4 氮掺杂 | 第26-27页 |
| 2． 6 微弧氧化技术引言 | 第27-28页 |
| 2． 7 微弧氧化发展简史 | 第28-29页 |
| 2． 8 技术机理 | 第29-32页 |
| 2． 9 微弧氧化陶瓷层的制备及结构 | 第32-38页 |
| 2． 9． 1 微弧氧化的生成条件 | 第32-33页 |
| 2． 9． 2 影响制备的因素 | 第33-34页 |
| 2． 9． 3 膜层的制备方法 | 第34-37页 |
| 2． 9． 3． 1 酸性电解液氧化法 | 第34-35页 |
| 2． 9． 3． 2 碱性电解液氧化法 | 第35-36页 |
| 2． 9． 3． 3 直流氧化法 | 第36页 |
| 2． 9． 3． 4 交流氧化法 | 第36-37页 |
| 2． 9． 3． 5 脉冲氧化法 | 第37页 |
| 2． 9． 3． 6 恒流或恒压氧化法 | 第37页 |
| 2． 9． 4 膜层的组织结构 | 第37-38页 |
| 2． 10 本课题研究的思路 | 第38-39页 |
| 第三章 实验 | 第39-45页 |
| 3． 1 多功能微弧氧化实验装置 | 第39-41页 |
| 3． 1． 1 制备的装置及流程 | 第39页 |
| 3． 1． 2 KLMPA-30A多功能微弧氧化电源 | 第39-41页 |
| 3． 2 测试仪器 | 第41-45页 |
| 3． 2． 1 扫描电子显微镜(SEM) | 第41页 |
| 3． 2． 2 X射线衍射(XRD) | 第41-42页 |
| 3． 2． 3 X光电子能谱 | 第42页 |
| 3． 2． 4 薄膜光学性能的测定 | 第42-43页 |
| 3． 2． 5 薄膜光催化性的测定 | 第43-45页 |
| 第四章 不同电解质对氧化钛微弧氧化陶瓷层薄膜光催化性能的影响 | 第45-55页 |
| 4． 1 引言 | 第45页 |
| 4． 2 实验条件 | 第45页 |
| 4． 3 用磷酸盐作为电解质制备样品的过程和性能讨论 | 第45-51页 |
| 4． 3． 1 用磷酸铵和磷酸钠作为电解质制备样品的过程及现象 | 第45-46页 |
| 4． 3． 2 XRD分析 | 第46-47页 |
| 4． 3． 3 薄膜光催化性能的测定与分析 | 第47页 |
| 4． 3． 4 SEM分析 | 第47-48页 |
| 4． 3． 5 还原退火处理 | 第48-49页 |
| 4． 3． 6 XPS分析 | 第49-51页 |
| 4． 4 用酸作为电解质制备样品的过程和性能讨论 | 第51-54页 |
| 4． 4． 1 电解质的选取 | 第51-52页 |
| 4． 4． 2 实验的电解液成份 | 第52页 |
| 4． 4． 3 薄膜光催化性能的分析 | 第52-53页 |
| 4． 4． 4 XRD测试结果及其分析 | 第53-54页 |
| 4． 5 小结与改进计划 | 第54-55页 |
| 第五章 电压与时间参数对微弧氧化法制备TiO_2薄膜的光催化性能的影响 | 第55-62页 |
| 5． 1 引言 | 第55页 |
| 5． 2 实验条件 | 第55页 |
| 5． 3 不同最高微弧氧化处理电压对膜层结构及光催化性能的影响 | 第55-58页 |
| 5． 3． 1 实验参数以及光催化性能测试结果 | 第55-56页 |
| 5． 3． 2 薄膜光催化性能结果分析 | 第56-57页 |
| 5． 3． 3 薄膜XRD结果分析 | 第57页 |
| 5． 3． 4 薄膜SEM结果分析 | 第57-58页 |
| 5． 4 不同微弧氧化处理时间对膜层结构及光催化性能的影响 | 第58-61页 |
| 5． 4． 1 实验参数以及光催化性能测试结果 | 第58页 |
| 5． 4． 2 薄膜光催化性能结果分析 | 第58-59页 |
| 5． 4． 3 薄膜XRD结果分析 | 第59-60页 |
| 5． 4． 4 薄膜SEM结果分析 | 第60-61页 |
| 5． 5 小结 | 第61-62页 |
| 第六章 结论与展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-77页 |
| 攻读硕士期间的成果 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
