真空膜蒸馏机理研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-9页 |
| 1 引言 | 第9-17页 |
| 1．1 膜分离技术概论 | 第9-10页 |
| 1．2 膜蒸馏技术概况 | 第10-14页 |
| 1．2．1 膜蒸馏技术的应用及进展 | 第10-11页 |
| 1．2．2 膜蒸馏用膜 | 第11页 |
| 1．2．3 膜蒸馏分类 | 第11-12页 |
| 1．2．4 影响膜蒸馏过程的因素 | 第12-13页 |
| 1．2．5 膜蒸馏技术的优点 | 第13-14页 |
| 1．3 VMD过程概述 | 第14-15页 |
| 1．3．1 VMD过程的基本原理 | 第14页 |
| 1．3．2 VMD过程的优点 | 第14页 |
| 1．3．3 VMD过程的研究现状 | 第14-15页 |
| 1．4 本论文的研究目的 | 第15-17页 |
| 2 过程阻力测试及分析 | 第17-25页 |
| 2．1 膜结构测定 | 第17-19页 |
| 2．1．1 实验仪器及材料 | 第17页 |
| 2．1．2 分离膜的预处理 | 第17页 |
| 2．1．3 实验内容与方法 | 第17-19页 |
| 2．2 空气渗透实验 | 第19-20页 |
| 2．2．1 试验内容与方法 | 第19-20页 |
| 2．2．2 工艺流程图 | 第20页 |
| 2．3 汽化阻力测试-蒸馏水的VMD试验 | 第20-21页 |
| 2．3．1 试验仪器、材料及装置 | 第20页 |
| 2．3．2 试验内容与方法 | 第20页 |
| 2．3．3 进料在膜组件内的流动示意图 | 第20-21页 |
| 2．4 结果与讨论 | 第21-25页 |
| 2．4．1 气体渗透试验 | 第21页 |
| 2．4．2 蒸馏水的VMD试验结果与讨论 | 第21-24页 |
| 2．4．3 小结 | 第24-25页 |
| 3 机理研究及模型构建 | 第25-46页 |
| 3．1 膜蒸馏过程的基本认识 | 第25-40页 |
| 3．1．1 热侧的基本认识 | 第25-29页 |
| 3．1．2 膜内传输的认识 | 第29-33页 |
| 3．1．3 冷侧 | 第33-35页 |
| 3．1．4 专题讨论 | 第35-40页 |
| 3．2 VMD混合流模型构建 | 第40-44页 |
| 3．2．1 混合流模型的研究现状 | 第41-42页 |
| 3．2．2 温度、浓度分布及混合流模型的构建 | 第42-44页 |
| 3．3 VMD过程模拟 | 第44-46页 |
| 3．3．1 计算机模拟的必要性 | 第44-45页 |
| 3．3．2 实现途径即程序设计思想 | 第45-46页 |
| 4 混合流模型的实验验证 | 第46-52页 |
| 4．1 含铬溶液的VMD实验 | 第46-47页 |
| 4．1．1 实验仪器与材料 | 第46页 |
| 4．1．2 实验内容与方法 | 第46页 |
| 4．1．3 考查参数及计算 | 第46-47页 |
| 4．2 实验结果与讨论 | 第47-51页 |
| 4．2．1 通量与温度关系 | 第47页 |
| 4．2．2 通量与进料流速的关系 | 第47-48页 |
| 4．2．3 通量与冷侧压强的关系 | 第48页 |
| 4．2．4 通量与进料浓度的关系 | 第48-49页 |
| 4．2．5 TCP、CPC与进料温度的关系 | 第49-51页 |
| 4．3 小结 | 第51-52页 |
| 5 结论和展望 | 第52-53页 |
| 5．1 结论 | 第52页 |
| 5．2 展望 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 附录 | 第58-65页 |
| 附录1VMD过程计算程序 | 第58-65页 |
| 附录2硕士期间发表论文 | 第65页 |
