| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| ·研究的背景及意义 | 第10-12页 |
| ·研究的背景 | 第10-11页 |
| ·研究的意义 | 第11-12页 |
| ·国内外研究现状 | 第12-18页 |
| ·国外研究现状 | 第12-14页 |
| ·国内研究现状 | 第14-16页 |
| ·国内外研究评述 | 第16-18页 |
| ·本文的研究方法和内容 | 第18-20页 |
| ·本文研究运用的方法 | 第18页 |
| ·本文研究内容 | 第18-20页 |
| ·本文可能的创新及局限性 | 第20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第二章 企业迁移相关概念和理论 | 第21-29页 |
| ·基本概念 | 第21-24页 |
| ·后金融危机时代 | 第21-22页 |
| ·企业迁移 | 第22-23页 |
| ·企业内迁 | 第23页 |
| ·决策与区位决策 | 第23-24页 |
| ·本文研究范围的确定 | 第24-25页 |
| ·相关的企业迁移理论 | 第25-28页 |
| ·新古典区位理论 | 第25-26页 |
| ·决策行为理论 | 第26-27页 |
| ·制度理论 | 第27-28页 |
| ·SWOT 分析方法 | 第28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 后金融危机时代电子制造企业内迁的现状分析 | 第29-36页 |
| ·后金融危机时代电子制造企业内迁现状分析 | 第29-32页 |
| ·电子制造业的特点 | 第29-30页 |
| ·电子制造业的区位分布 | 第30-31页 |
| ·后金融危机时代电子制造企业内迁区位分布 | 第31-32页 |
| ·后金融危机时代电子制造企业内迁区位决策过程 | 第32-34页 |
| ·决策分类 | 第32-33页 |
| ·企业内迁区位决策过程特点 | 第33页 |
| ·企业迁移决策过程研究现状 | 第33-34页 |
| ·电子制造企业内迁区位决策原则 | 第34-35页 |
| ·利润最大化原则 | 第34页 |
| ·成本最小化原则 | 第34-35页 |
| ·市场最大化原则 | 第35页 |
| ·资源最优化原则 | 第35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第四章 电子制造企业内迁原因分析及其因素分析 | 第36-45页 |
| ·内迁原因分析——SWOT 分析法 | 第36-39页 |
| ·S 优势 | 第36页 |
| ·W 劣势 | 第36-37页 |
| ·O 机会 | 第37-38页 |
| ·T 威胁 | 第38-39页 |
| ·影响电子制造企业内迁的因素分析 | 第39-44页 |
| ·企业内部因素 | 第40-42页 |
| ·企业原区位因素 | 第42-43页 |
| ·新区位因素 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 内迁区位决策指标体系和决策模型的建立 | 第45-53页 |
| ·电子制造企业内迁区位决策指标体系的建立 | 第45-47页 |
| ·指标体系构建原则 | 第45页 |
| ·指标体系的建立 | 第45-47页 |
| ·决策模型的建立 | 第47-52页 |
| ·层次分析法以及模糊综合评价法 | 第47页 |
| ·构建决策模型的前提假设 | 第47-48页 |
| ·决策模型的建立过程 | 第48-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第六章 电子制造企业内迁区位决策模型的运用——水晶光电 | 第53-65页 |
| ·水晶光电基本情况 | 第53-56页 |
| ·优势 | 第53-55页 |
| ·劣势 | 第55页 |
| ·机会 | 第55页 |
| ·威胁 | 第55-56页 |
| ·水晶光电内迁区位变量定性分析 | 第56-58页 |
| ·电子制造企业内迁区位决策模型的运用分析 | 第58-64页 |
| ·利用层次分析法确定各指标的权重 | 第58-60页 |
| ·确定各指标的评语等级域 | 第60页 |
| ·建立模糊关系矩阵 | 第60-61页 |
| ·综合评价 | 第61-63页 |
| ·最终结果的判定 | 第63-64页 |
| ·本章小结 | 第64-65页 |
| 第七章 结论与展望 | 第65-67页 |
| ·本文总结 | 第65页 |
| ·展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 附录 | 第71-75页 |
| 攻读学位期间本人出版或公开发表的论著、论文 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |