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碳化硅单晶微管缺陷的表征及分布规律研究

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-10页
   ·碳化硅的发展历史第7-8页
   ·碳化硅研究现状第8-9页
   ·课题的研究工作第9-10页
第二章 碳化硅的晶体结构及缺陷种类第10-19页
   ·晶体结构第10-12页
   ·碳化硅晶体中的缺陷第12-19页
     ·刃位错第12-13页
     ·螺位错第13-14页
     ·混合位错第14页
     ·Frank-Read 位错源第14-15页
     ·层错第15页
     ·微管第15-19页
第三章 碳化硅的生长方法及其物理性能第19-27页
   ·碳化硅的生长机制和生长方法第19-23页
     ·生长机制第19页
     ·生长方法第19-23页
   ·碳化硅单晶的性质第23-27页
     ·碳化硅单晶的电学性能第23-25页
     ·碳化硅的光学性质第25-27页
第四章 碳化硅微管的形成和分布机理第27-48页
   ·用高分辨X 光衍射仪对晶体品质进行表征第27-30页
   ·用 Raman 光谱表征6H-SiC 的多型结构第30-31页
   ·微管和其他缺陷的形貌表征第31-39页
     ·湿法腐蚀第31-32页
     ·用扫描电镜对样品进行表征第32-35页
     ·用光学显微镜观察的微管形貌第35-37页
     ·六角形空洞的生长以及诱发的微管第37-39页
   ·微管分布计算实验第39-48页
     ·用体式光学显微镜对碳化硅单晶中的微管进行观察第39-42页
     ·6H-SiC 单晶片上微管的分布第42-46页
     ·6H-SiC 微管孔径分布研究第46-48页
第五章 结论第48-50页
致谢第50-51页
参考文献第51-55页
研究成果第55-56页

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