硅基表面亲水化处理的研究及其表面自组装膜的修饰
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-12页 |
| 第1章 文献综述 | 第12-29页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·硅基材料 | 第12-15页 |
| ·硅基清洗的目的和意义 | 第12-13页 |
| ·硅基清洗的发展状况 | 第13-15页 |
| ·自组装膜 | 第15-28页 |
| ·自组装膜的定义 | 第15-16页 |
| ·自组装膜的发展与分类 | 第16-22页 |
| ·自组装膜的应用与前景 | 第22-25页 |
| ·自组装膜的表征 | 第25-28页 |
| ·论文工作 | 第28-29页 |
| 第2章 实验仪器与检测 | 第29-32页 |
| ·实验仪器 | 第29页 |
| ·检测手段 | 第29-32页 |
| ·接触角检测仪 | 第29-30页 |
| ·傅立叶红外变换光谱仪 | 第30页 |
| ·紫外光谱仪 | 第30页 |
| ·原子力显微镜 | 第30页 |
| ·电化学工作站 | 第30-32页 |
| 第3章 硅基底的微波辐照亲水化清洗方法 | 第32-43页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·实验部分 | 第32-34页 |
| ·实验材料与试剂 | 第32-33页 |
| ·硅基底不同亲水化处理 | 第33-34页 |
| ·结果与讨论 | 第34-41页 |
| ·接触角检测 | 第34-36页 |
| ·红外光谱检测 | 第36-38页 |
| ·原子力显微镜检测 | 第38-39页 |
| ·微波辐照时间对亲水化处理效果的影响 | 第39-40页 |
| ·微波辐照工艺的应用 | 第40-41页 |
| ·小结 | 第41-43页 |
| 第4章 端基为羧基的自组装膜的制备 | 第43-51页 |
| ·引言 | 第43-44页 |
| ·实验部分 | 第44-45页 |
| ·实验材料与试剂 | 第44-45页 |
| ·硅基底的表面亲水化处理 | 第45页 |
| ·氰基表面自组装膜的制备 | 第45页 |
| ·羧基表面自组装膜的制备 | 第45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-49页 |
| ·接触角检测 | 第45-46页 |
| ·红外检测 | 第46-48页 |
| ·原子力显微镜检测 | 第48-49页 |
| ·小结 | 第49-51页 |
| 第5章 羧基自组装膜的修饰与应用 | 第51-60页 |
| ·引言 | 第51-52页 |
| ·实验部分 | 第52-53页 |
| ·实验材料与试剂 | 第52页 |
| ·含有 Ag+离子的羧基自组装膜的制备 | 第52-53页 |
| ·自组装膜表层金属薄膜的制备 | 第53页 |
| ·结果与讨论 | 第53-58页 |
| ·原子力显微镜检测 | 第53-55页 |
| ·紫外光谱检测 | 第55-57页 |
| ·金属薄膜的导电性检测 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 第6章 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-77页 |
| 攻读硕士研究生期间发表论文及申请专利情况 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
