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气氛条件下纳米催化剂的原位电镜研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第一章 绪论第12-40页
    1.1 透射电子显微镜简介第12-16页
    1.2 气体透射电子显微镜第16-18页
        1.2.1 环境透射电镜第16-17页
        1.2.2 气体芯片技术第17-18页
    1.3 纳米催化剂的气体原位研究第18-31页
        1.3.1 纳米催化剂的重构第18-22页
        1.3.2 纳米催化剂的烧结第22-26页
        1.3.3 纳米催化剂的金属-载体强相互作用第26-28页
        1.3.4 纳米催化剂的催化状态第28-31页
    1.4 金属的氧化第31-38页
        1.4.1 Wagner氧化理论第32-34页
        1.4.2 Mott-Cabrera氧化理论第34-36页
        1.4.3 金属氧化的柯肯达尔效应第36-38页
    1.5 本文的选题依据和研究内容第38-40页
第二章 实验设备和研究方法第40-46页
    2.1 透射电子显微镜(TEM)设备简介第40-41页
        2.1.1 环境透射电镜第40页
        2.1.2 其他透射电子显微镜第40-41页
    2.2 气体芯片系统第41-46页
        2.2.1 纳米反应器第42-43页
        2.2.2 气体样品杆第43-44页
        2.2.3 供气系统第44-46页
第三章 负载金属纳米颗粒的重构第46-58页
    3.1 引言第46-47页
    3.2 实验方法第47-48页
        3.2.1 理论计算第47-48页
        3.2.2 原位实验第48页
    3.3 结果与讨论第48-57页
        3.3.1 负载金属纳米颗粒在气体环境中的理论模型第48-50页
        3.3.2 Cu/ZnO在H_2O中的形貌结构第50-56页
        3.3.3 Pt/SrTiO_3在H_2中的形貌结构第56-57页
    3.4 本章小结第57-58页
第四章 Ni纳米颗粒的氧化第58-72页
    4.1 引言第58页
    4.2 实验方法第58-59页
    4.3 结果与讨论第59-70页
        4.3.1 Ni纳米颗粒在600℃下的氧化第59-61页
        4.3.2 Ni纳米颗粒在800℃下的氧化第61-67页
        4.3.3 不同温度下Ni纳米颗粒的氧化机理第67-68页
        4.3.4 Cu和Co纳米颗粒在不同温度下的氧化第68-70页
    4.4 本章小结第70-72页
第五章 Ni纳米颗粒的氧化动力学第72-90页
    5.1 引言第72页
    5.2 实验方法第72-73页
    5.3 结果与讨论第73-87页
        5.3.1 原位电子衍射第73-78页
        5.3.2 氧化动力学第78-83页
        5.3.3 电子束和曝光时间的影响第83-85页
        5.3.4 NiO还原动力学第85-87页
    5.4 本章小结第87-90页
第六章 Mo的氧化和MoO_2的生长第90-108页
    6.1 引言第90页
    6.2 实验方法第90-93页
        6.2.1 实验设备和流程第90-93页
        6.2.2 理论计算第93页
    6.3 结果与讨论第93-105页
        6.3.1 Mo的原位氧化第93-95页
        6.3.2 MoO_2(011)表面重构结构第95-98页
        6.3.3 表面重构的稳定性第98-100页
        6.3.4 MoO_2(011)重构面的原位生长第100-103页
        6.3.5 MoO_2(011)重构面的原位分解第103-104页
        6.3.6 MoO_2(011)重构面的生长模型第104-105页
    6.4 本章小结第105-108页
第七章 总结与展望第108-110页
参考文献第110-124页
致谢第124-126页
个人简历第126-128页
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其它研究成果第128页

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