复合绝缘子污闪动态发展过程与影响因素研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.1.1 课题研究背景 | 第9-10页 |
| 1.1.2 课题研究目的及意义 | 第10页 |
| 1.2 绝缘子产品国内外发展现状 | 第10-12页 |
| 1.3 绝缘子污闪研究国内外发展现状 | 第12-15页 |
| 1.3.1 绝缘子污闪试验研究 | 第12-13页 |
| 1.3.2 绝缘子污闪仿真研究 | 第13-15页 |
| 1.4 本文研究的主要内容 | 第15-17页 |
| 第2章 绝缘子污闪机理及模型建立 | 第17-22页 |
| 2.1 绝缘子污闪机理和发展过程 | 第17-18页 |
| 2.1.1 绝缘子污闪机理 | 第17页 |
| 2.1.2 绝缘子污闪发展过程 | 第17-18页 |
| 2.2 绝缘子污闪奥本斯诺模型 | 第18-19页 |
| 2.3 绝缘子污闪放电干区数学模型及边界条件设定 | 第19-21页 |
| 2.3.1 数学方程 | 第19-20页 |
| 2.3.2 边界条件 | 第20-21页 |
| 2.4 本章小结 | 第21-22页 |
| 第3章 绝缘子人工污秽试验 | 第22-31页 |
| 3.1 试品 | 第22页 |
| 3.2 试验原理及试验设备参数 | 第22-25页 |
| 3.2.1 试验原理 | 第22-23页 |
| 3.2.2 试验设备参数 | 第23-25页 |
| 3.3 试验准备与试验步骤 | 第25-27页 |
| 3.3.1 试验准备工作 | 第25页 |
| 3.3.2 试验步骤 | 第25-27页 |
| 3.4 污闪电弧发展过程及结果分析 | 第27-29页 |
| 3.4.1 污闪电弧发展过程 | 第27-28页 |
| 3.4.2 试验结果分析 | 第28-29页 |
| 3.5 本章小结 | 第29-31页 |
| 第4章 绝缘子污闪动态发展过程的仿真分析 | 第31-38页 |
| 4.1 复合绝缘子仿真模型的建立 | 第31-33页 |
| 4.1.1 仿真模型 | 第31-32页 |
| 4.1.2 仿真参数 | 第32-33页 |
| 4.2 仿真结果分析 | 第33-37页 |
| 4.2.1 污闪电弧动态发展过程中温度场分布 | 第33-35页 |
| 4.2.2 污闪电弧动态发展过程中电场分布 | 第35-36页 |
| 4.2.3 污闪电弧动态发展过程中电流密度分布 | 第36-37页 |
| 4.3 本章小结 | 第37-38页 |
| 第5章 绝缘子污闪动态发展过程影响因素研究 | 第38-48页 |
| 5.1 污秽电导率对绝缘子闪络的影响 | 第38-41页 |
| 5.2 干区个数对绝缘子闪络的影响 | 第41-44页 |
| 5.3 大气压强对绝缘子闪络的影响 | 第44-46页 |
| 5.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第6章 结论与展望 | 第48-50页 |
| 6.1 结论 | 第48页 |
| 6.2 展望 | 第48-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 在学研究成果 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
