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基于激光直写还原石墨烯氧化物的实验研究

摘要第4-6页
abstract第6-8页
第一章 绪论第11-20页
    1.1 激光直写布线技术第11-12页
    1.2 石墨烯第12-15页
        1.2.1 石墨烯的结构及特性第12-13页
        1.2.2 石墨烯的应用与发展第13-15页
    1.3 石墨烯的制备第15-18页
        1.3.1 机械剥离法第15-16页
        1.3.2 外延生长法第16-17页
        1.3.3 化学气相沉积法第17-18页
        1.3.4 氧化石墨烯还原法第18页
    1.4 本文的研究思路和内容第18-20页
第二章 激光直写氧化石墨烯还原反应的研究第20-34页
    2.1 引言第20页
    2.2 氧化石墨烯的制备第20-21页
    2.3 氧化石墨烯薄膜的制备第21-23页
    2.4 激光直写扫描氧化石墨烯薄膜第23-27页
        2.4.1 激光扫描系统介绍第23-26页
        2.4.2 实验方案设计第26-27页
    2.5 激光直写还原GO的结果表征第27-33页
        2.5.1 拉曼光谱分析第27-30页
        2.5.2 XPS能谱分析第30-32页
        2.5.3 XRD能谱分析第32-33页
    2.6 本章小结第33-34页
第三章 激光直写氧化石墨烯图案化成形的研究第34-47页
    3.1 引言第34-35页
    3.2 实验方案设计第35-37页
    3.3 激光直写柔性制备多样化图案第37-39页
    3.4 激光直写图案化质量表征第39-46页
        3.4.1 金相显微镜观察第39-42页
        3.4.2 扫描电子显微镜观测第42-44页
        3.4.3 原子力显微镜检测第44-46页
    3.5 本章小结第46-47页
第四章 图案化还原氧化石墨烯微电路的电学性能研究第47-59页
    4.1 引言第47-48页
    4.2 激光调控氧化石墨烯电学性能的研究进展第48-50页
        4.2.1 连续激光还原氧化石墨烯第48-50页
        4.2.2 脉冲激光还原氧化石墨烯第50页
    4.3 皮秒激光调控氧化石墨烯电学性能的研究第50-58页
        4.3.1 实验方案设计第50-53页
        4.3.2 微电路伏安特性曲线测试第53-57页
        4.3.3 二维面结构方块电阻测试第57-58页
    4.4 本章小结第58-59页
第五章 总结与展望第59-61页
    5.1 总结第59-60页
    5.2 展望第60-61页
参考文献第61-66页
致谢第66-67页
攻读硕士期间的研究成果第67页

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