基于激光直写还原石墨烯氧化物的实验研究
摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-8页 |
第一章 绪论 | 第11-20页 |
1.1 激光直写布线技术 | 第11-12页 |
1.2 石墨烯 | 第12-15页 |
1.2.1 石墨烯的结构及特性 | 第12-13页 |
1.2.2 石墨烯的应用与发展 | 第13-15页 |
1.3 石墨烯的制备 | 第15-18页 |
1.3.1 机械剥离法 | 第15-16页 |
1.3.2 外延生长法 | 第16-17页 |
1.3.3 化学气相沉积法 | 第17-18页 |
1.3.4 氧化石墨烯还原法 | 第18页 |
1.4 本文的研究思路和内容 | 第18-20页 |
第二章 激光直写氧化石墨烯还原反应的研究 | 第20-34页 |
2.1 引言 | 第20页 |
2.2 氧化石墨烯的制备 | 第20-21页 |
2.3 氧化石墨烯薄膜的制备 | 第21-23页 |
2.4 激光直写扫描氧化石墨烯薄膜 | 第23-27页 |
2.4.1 激光扫描系统介绍 | 第23-26页 |
2.4.2 实验方案设计 | 第26-27页 |
2.5 激光直写还原GO的结果表征 | 第27-33页 |
2.5.1 拉曼光谱分析 | 第27-30页 |
2.5.2 XPS能谱分析 | 第30-32页 |
2.5.3 XRD能谱分析 | 第32-33页 |
2.6 本章小结 | 第33-34页 |
第三章 激光直写氧化石墨烯图案化成形的研究 | 第34-47页 |
3.1 引言 | 第34-35页 |
3.2 实验方案设计 | 第35-37页 |
3.3 激光直写柔性制备多样化图案 | 第37-39页 |
3.4 激光直写图案化质量表征 | 第39-46页 |
3.4.1 金相显微镜观察 | 第39-42页 |
3.4.2 扫描电子显微镜观测 | 第42-44页 |
3.4.3 原子力显微镜检测 | 第44-46页 |
3.5 本章小结 | 第46-47页 |
第四章 图案化还原氧化石墨烯微电路的电学性能研究 | 第47-59页 |
4.1 引言 | 第47-48页 |
4.2 激光调控氧化石墨烯电学性能的研究进展 | 第48-50页 |
4.2.1 连续激光还原氧化石墨烯 | 第48-50页 |
4.2.2 脉冲激光还原氧化石墨烯 | 第50页 |
4.3 皮秒激光调控氧化石墨烯电学性能的研究 | 第50-58页 |
4.3.1 实验方案设计 | 第50-53页 |
4.3.2 微电路伏安特性曲线测试 | 第53-57页 |
4.3.3 二维面结构方块电阻测试 | 第57-58页 |
4.4 本章小结 | 第58-59页 |
第五章 总结与展望 | 第59-61页 |
5.1 总结 | 第59-60页 |
5.2 展望 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-66页 |
致谢 | 第66-67页 |
攻读硕士期间的研究成果 | 第67页 |