摘要 | 第2-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
1 绪论 | 第8-15页 |
1.1 射频感性耦合放电等离子体的放电特征及研究进展 | 第8-12页 |
1.1.1 低温等离子体简介 | 第8-9页 |
1.1.2 射频感性耦合放电等离子体源的装置结构及放电特性 | 第9-11页 |
1.1.3 射频感性耦合放电等离子体的研究现状 | 第11-12页 |
1.2 等离子体背景气体输运的研究现状及发展 | 第12-14页 |
1.2.1 等离子体产生与输运过程 | 第12-13页 |
1.2.2 等离子体背景气体输运研究进展 | 第13-14页 |
1.3 本文的研究内容与安排 | 第14-15页 |
2 射频感应放电等离子体耦合背景气体的二维流体理论模型 | 第15-22页 |
2.1 引言 | 第15页 |
2.2 COMSOL软件简介 | 第15-16页 |
2.3 理论模型介绍 | 第16-22页 |
2.3.0 几何模型 | 第16-17页 |
2.3.1 Ar/O_2化学反应数据库 | 第17-19页 |
2.3.2 电子方程 | 第19-20页 |
2.3.3 重粒子方程 | 第20-21页 |
2.3.4 电磁场方程 | 第21页 |
2.3.5 背景气体流场方程 | 第21-22页 |
3 射频感性Ar/O_2放电等离子体粒子空间分布特性 | 第22-36页 |
3.1 引言 | 第22-23页 |
3.2 结果与讨论 | 第23-35页 |
3.2.1 理论模型验证 | 第23-26页 |
3.2.2 带电粒子空间分布特性 | 第26-31页 |
3.2.3 中性粒子空间分布特性 | 第31-35页 |
3.3 本章小结 | 第35-36页 |
4 射频感应Ar/O_2等离子体耦合背景气体对流过程对放电机制的影响 | 第36-52页 |
4.1 引言 | 第36页 |
4.2 结果与讨论 | 第36-50页 |
4.2.1 中性粒子空间形貌随入口流速的变化 | 第37-47页 |
4.2.2 电子密度和温度随入口流速的变化情况 | 第47-48页 |
4.2.3 带电粒子数密度峰值随入口流速变化趋势 | 第48-50页 |
4.3 本章小结 | 第50-52页 |
结论 | 第52-54页 |
参考文献 | 第54-58页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第58-59页 |
致谢 | 第59-61页 |