| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第16-28页 |
| 1.1 电化学还原CO_2催化剂 | 第16-22页 |
| 1.1.1 零维纳米结构材料的研究进展 | 第17-20页 |
| 1.1.2 一维纳米结构材料的研究进展 | 第20页 |
| 1.1.3 二维纳米结构材料的研究进展 | 第20-22页 |
| 1.2 CO_2还原反应机理 | 第22-26页 |
| 1.2.1 CO_2还原的路径 | 第22-23页 |
| 1.2.2 CO_2还原机理研究进展 | 第23-26页 |
| 1.3 论文的选题立意、研究内容 | 第26-28页 |
| 1.3.1 论文的选题立意 | 第26页 |
| 1.3.2 论文的研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 计算理论基础 | 第28-36页 |
| 2.1 密度泛函理论 | 第28-33页 |
| 2.1.1 波恩-奥本海默绝热近似 | 第28-29页 |
| 2.1.2 哈特里-福克近似 | 第29-30页 |
| 2.1.3 HK理论和KS方程 | 第30-32页 |
| 2.1.4 交换关联泛函 | 第32-33页 |
| 2.2 赝势 | 第33-34页 |
| 2.3 周期性平板模型 | 第34-35页 |
| 2.4 计算软件包 | 第35-36页 |
| 第三章 Co_3O_4(001)面催化CO_2还原成甲酸的反应机理 | 第36-58页 |
| 3.1 引言 | 第36-37页 |
| 3.2 计算方法及模型 | 第37-39页 |
| 3.3 反应物和产物在Co_3O_4(001)面的吸附结构 | 第39-44页 |
| 3.3.1 CO_2的吸附结构 | 第39页 |
| 3.3.2 HCOO的吸附结构 | 第39-40页 |
| 3.3.3 H_2O的吸附结构 | 第40-41页 |
| 3.3.4 H原子的吸附结构 | 第41-43页 |
| 3.3.5 HCO_3的吸附结构 | 第43-44页 |
| 3.4 过渡态搜索方法确定反应路径 | 第44-55页 |
| 3.4.1 氢转移过程 | 第44-48页 |
| 3.4.2 吸附氢原子的产生过程 | 第48-50页 |
| 3.4.3 CO_2-的形成过程 | 第50-53页 |
| 3.4.4 结果分析 | 第53-55页 |
| 3.5 小结 | 第55-58页 |
| 第四章 电场强度对Co_3O_4纳米薄片(001)面催化CO_2还原过程的影响 | 第58-66页 |
| 4.1 引言 | 第58页 |
| 4.2 电场对HCOOH生成过程的影响 | 第58-61页 |
| 4.2.1 电场作用下HOOH生成过程 | 第58-60页 |
| 4.2.2 电场强度对氢转移反应能垒的影响 | 第60-61页 |
| 4.3 电场对CO_2吸附的影响 | 第61-64页 |
| 4.4 小结 | 第64-66页 |
| 第五章 Co_3O_4薄片(001)面的氧空位处CO_2还原过程 | 第66-74页 |
| 5.1 引言 | 第66页 |
| 5.2 氧空位对HCO_3~-吸附的影响 | 第66-67页 |
| 5.3 氧空位对反应过程的影响 | 第67-72页 |
| 5.4 氧空位对水分解过程的影响 | 第72-73页 |
| 5.5 小结 | 第73-74页 |
| 第六章 Ni掺杂对二维Co_3O_4(001)面催化CO_2还原性能的影响 | 第74-86页 |
| 6.1 引言 | 第74页 |
| 6.2 Ni在Co_3O_4中的取代位点 | 第74-75页 |
| 6.3 Ni掺杂对HCOOH生成过程的影响 | 第75-80页 |
| 6.3.1 Ni取代表面的Co~(Tet)的影响 | 第76-78页 |
| 6.3.2 Ni取代内层的Co~(Tet)的影响 | 第78-80页 |
| 6.4 Ni掺杂Co_3O_4纳米薄片的制备和性能研究 | 第80-84页 |
| 6.4.1 试验方法 | 第80页 |
| 6.4.2 样品的物相、形貌和催化性能 | 第80-84页 |
| 6.5 小结 | 第84-86页 |
| 第七章 绪论 | 第86-88页 |
| 参考文献 | 第88-94页 |
| 致谢 | 第94-96页 |
| 作者和导师简介 | 第96-97页 |
| 附件 | 第97-98页 |
