| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第13-37页 |
| 1.1 微纳结构阵列的制备方法 | 第13-21页 |
| 1.1.1 光刻技术 | 第13-14页 |
| 1.1.2 干法刻蚀技术及湿法刻蚀技术 | 第14-15页 |
| 1.1.3 电子束刻蚀技术 | 第15页 |
| 1.1.4 离子束刻蚀技术 | 第15-16页 |
| 1.1.5 纳米压印技术 | 第16-17页 |
| 1.1.6 氧化铝(AAO)模板法 | 第17-18页 |
| 1.1.7 胶体球刻蚀技术 | 第18-21页 |
| 1.2 微纳结构阵列在超疏水表面材料上的应用 | 第21-28页 |
| 1.2.1 固体表面的浸润现象一杨氏方程 | 第21-22页 |
| 1.2.2 在粗糙微结构表面液体的浸润模型 | 第22-23页 |
| 1.2.3 基于微纳结构阵列的超疏水材料构建方法 | 第23-28页 |
| 1.3 微纳结构阵列在表面增强拉曼光谱(SERS)检测领域的应用 | 第28-35页 |
| 1.3.1 拉曼光谱技术 | 第28-29页 |
| 1.3.2 表面增强拉曼光谱技术及增强机理 | 第29-30页 |
| 1.3.3 微纳结构阵列SERS基底的制备技术 | 第30-35页 |
| 1.4 本论文的选题依据及研究内容 | 第35-37页 |
| 第2章 胶体球刻蚀制备微纳结构阵列及其表面浸润性研究 | 第37-53页 |
| 2.1 引言 | 第37-38页 |
| 2.2 试验部分 | 第38-39页 |
| 2.2.1 试验材料 | 第38页 |
| 2.2.2 PMMA衬底上单层PS微球阵列的制备 | 第38页 |
| 2.2.3 垂直排列具有分级结构的PMMA微纳阵列的制备 | 第38-39页 |
| 2.2.4 倾斜弯曲结构PMMA微纳阵列的制备 | 第39页 |
| 2.2.5 表征方法 | 第39页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第39-52页 |
| 2.3.1 垂直排列具有分级结构的PMMA微纳阵列的形貌特征 | 第39-41页 |
| 2.3.2 具有沟槽结构PMMA微纳阵列的形成机理 | 第41-43页 |
| 2.3.3 不同尺寸PMMA微纳结构阵列的形貌及粗糙度特征 | 第43-44页 |
| 2.3.4 弯曲结构PMMA微纳阵列的形貌特征及形成机理 | 第44-45页 |
| 2.3.5 具有分级结构PMMA微纳阵列表面的浸润性研究 | 第45-47页 |
| 2.3.6 倾斜弯曲PMMA微纳阵列表面的浸润性研究 | 第47-48页 |
| 2.3.7 具有分级结构PMMA微纳阵列表面的自清洁性能研究 | 第48-49页 |
| 2.3.8 微型水栖装置的制备及表面浸润性对其负载能力的影响 | 第49-52页 |
| 2.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第3章 微纳结构阵列超疏水表面黏附力的调控 | 第53-63页 |
| 3.1 引言 | 第53-54页 |
| 3.2 试验部分 | 第54-55页 |
| 3.2.1 试验材料 | 第54页 |
| 3.2.2 PMMA衬底上单层SiO_2微球阵列的制备 | 第54页 |
| 3.2.3 垂直排列大长径比的圆柱形PMMA微纳结构阵列的制备 | 第54-55页 |
| 3.2.4 表征方法 | 第55页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第55-62页 |
| 3.3.1 单层密排SiO_2微球阵列的形貌特征 | 第55-56页 |
| 3.3.2 所制备PMMA微纳结构阵列的形貌特征对比 | 第56-59页 |
| 3.3.3 所制备PMMA微纳结构阵列的表面浸润性 | 第59-61页 |
| 3.3.4 具有不同黏附力超疏水表面的应用 | 第61-62页 |
| 3.4 本章小结 | 第62-63页 |
| 第4章 跨尺度多级结构微纳阵列的构筑及其浸润性研究 | 第63-79页 |
| 4.1 引言 | 第63-64页 |
| 4.2 试验部分 | 第64-67页 |
| 4.2.1 试验材料 | 第64-65页 |
| 4.2.2 基于ICP刻蚀工艺的硅柱阵列模板制备 | 第65页 |
| 4.2.3 具有圆柱形微孔阵列的PDMS模板的制备 | 第65页 |
| 4.2.4 底部带有凸起圆柱形微孔阵列PDMS模板的制备 | 第65-66页 |
| 4.2.5 具有三种不同顶端构型的PU微柱阵列的制备 | 第66页 |
| 4.2.6 PMMA微米柱阵列表面单层PS微球阵列的制备 | 第66页 |
| 4.2.7 多级结构微纳阵列的制备 | 第66页 |
| 4.2.8 表征方法 | 第66-67页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第67-78页 |
| 4.3.1 不同结构硅柱阵列和PDMS模板的结构特征和ICP深硅刻蚀机理 | 第67-69页 |
| 4.3.2 具有不同顶端形貌PU微柱阵列的结构特征及形成机理 | 第69-71页 |
| 4.3.3 具有不同顶端形貌微柱阵列的浸润特性 | 第71-72页 |
| 4.3.4 多级微纳结构阵列的形貌特征 | 第72-77页 |
| 4.3.5 多级微纳结构阵列对其表面浸润性的调控研究 | 第77-78页 |
| 4.4 本章小结 | 第78-79页 |
| 第5章 微纳结构阵列柔性SERS基底的制备及检测应用 | 第79-93页 |
| 5.1 引言 | 第79-80页 |
| 5.2 试验部分 | 第80-82页 |
| 5.2.1 试验材料 | 第80-81页 |
| 5.2.2 在Nafion膜上制备单层PS微球阵列 | 第81页 |
| 5.2.3 Nafion膜表面纳米柱阵列的制备 | 第81页 |
| 5.2.4 Nafion纳米柱阵列的表面金属化 | 第81-82页 |
| 5.2.5 表征方法 | 第82页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第82-92页 |
| 5.3.1 微纳结构阵列柔性SERS基底的形貌特征及形成机理 | 第82-85页 |
| 5.3.2 结构形貌对柔性SERS基底的SERS性能的影响 | 第85-89页 |
| 5.3.3 微纳结构阵列柔性SERS基底的SERS性能 | 第89-90页 |
| 5.3.4 微纳结构阵列柔性SERS基底在污染物MG检测中的应用 | 第90-92页 |
| 5.4 本章小结 | 第92-93页 |
| 第6章 总结与展望 | 第93-95页 |
| 6.1 主要研究成果 | 第93-94页 |
| 6.2 前景展望 | 第94-95页 |
| 参考文献 | 第95-109页 |
| 致谢 | 第109-111页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第111-112页 |
