| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 涂料的光泽、消光方法和影响因素 | 第11-13页 |
| 1.2.1 涂料的光泽 | 第11-12页 |
| 1.2.2 涂料的消光方法 | 第12-13页 |
| 1.2.3 涂层光泽的影响因素 | 第13页 |
| 1.3 消光剂的种类 | 第13-16页 |
| 1.3.1 有机消光剂 | 第13-15页 |
| 1.3.2 无机消光剂 | 第15-16页 |
| 1.4 二氧化硅消光剂 | 第16-22页 |
| 1.4.1 二氧化硅的制备方法 | 第16-18页 |
| 1.4.2 二氧化硅的表面改性 | 第18-20页 |
| 1.4.3 二氧化硅结构对涂层光泽度的影响 | 第20-22页 |
| 1.5 选题意义及主要研究内容 | 第22-25页 |
| 1.5.1 选题意义 | 第22-24页 |
| 1.5.2 研究内容 | 第24-25页 |
| 第二章 高消光PU/SiO_2涂层的制备及其消光性能的研究 | 第25-43页 |
| 2.1 实验部分 | 第26-27页 |
| 2.1.1 实验原料与设备 | 第26页 |
| 2.1.2 消光涂料及涂层材料的制备 | 第26-27页 |
| 2.2 测试与表征方法 | 第27-28页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第28-41页 |
| 2.3.1 不同二氧化硅的表面参数 | 第28-30页 |
| 2.3.2 不同型号二氧化硅及添加量对PU/SiO_2涂层消光性的影响 | 第30-36页 |
| 2.3.3 二氧化硅粒径对PU/SiO_2涂层消光性的影响 | 第36-39页 |
| 2.3.4 二氧化硅处理温度对PU/SiO_2涂层消光性的影响 | 第39-41页 |
| 2.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第三章 高消光AA/SiO_2涂层的制备及其消光性能研究 | 第43-55页 |
| 3.1 实验部分 | 第43-44页 |
| 3.1.1 实验原料与设备 | 第43-44页 |
| 3.1.2 消光涂料及涂层材料的制备 | 第44页 |
| 3.2 测试与表征 | 第44-45页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第45-53页 |
| 3.3.1 不同型号二氧化硅及添加量对AA/SiO_2涂层消光性的影响 | 第45-49页 |
| 3.3.2 二氧化硅粒径对AA/SiO_2涂层消光性的影响 | 第49-52页 |
| 3.3.3 二氧化硅处理温度对AA/SiO_2涂层消光性的影响 | 第52-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-55页 |
| 第四章 高孔隙率PU/SiO_2涂层和AA/SiO_2涂层的制备及其消光性能研究 | 第55-65页 |
| 4.1 实验部分 | 第55-57页 |
| 4.1.1 实验原料与设备 | 第55-56页 |
| 4.1.2 S-XGJ、消光涂料及涂层材料的制备 | 第56-57页 |
| 4.2 测试与表征 | 第57页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第57-63页 |
| 4.3.1 S-XGJ消光剂的结构分析 | 第57-60页 |
| 4.3.2 高孔隙PU/SiO_2涂层的制备及消光性能研究 | 第60-61页 |
| 4.3.3 高孔隙AA/SiO_2涂层的制备及其消光性能研究 | 第61-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 结论与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 主要结论 | 第65页 |
| 5.2 展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 致谢 | 第73-75页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第75-76页 |
