摘要 | 第4-5页 |
SUMMARY | 第5-6页 |
缩略词表 | 第7-8页 |
第一章 研究背景与文献综述 | 第8-20页 |
1.1 维管形成层 | 第8-11页 |
1.1.1 维管形成层的结构特点 | 第8-10页 |
1.1.2 维管形成层的活动节律 | 第10-11页 |
1.2 控制植物年周期变化的机制及环境影响因子 | 第11-13页 |
1.2.1 休眠的建立 | 第11页 |
1.2.2 休眠的解除 | 第11-12页 |
1.2.3 调控树木年周期变化的重要环境因子 | 第12-13页 |
1.3 胼胝质简介 | 第13-18页 |
1.3.1 胼胝质的结构性质及其合成 | 第13页 |
1.3.2 胼胝质的功能作用 | 第13-16页 |
1.3.3 胼胝质在木本植物中的相关研究现状 | 第16-18页 |
1.4 本研究的目的和意义 | 第18-20页 |
第二章 杨树PtGSL(PtCals)基因家族的分子特性分析 | 第20-27页 |
2.1 前言 | 第20页 |
2.2 实验方法 | 第20-22页 |
2.2.1 染色体定位图 | 第20页 |
2.2.2 系统进化树 | 第20页 |
2.2.3 内含子与外显子分布示意图 | 第20-21页 |
2.2.4 PtGSL7(PtCals7)同源基因序列比对 | 第21-22页 |
2.3 结果与讨论 | 第22-27页 |
2.3.1 染色体定位 | 第22-23页 |
2.3.2 系统进化树 | 第23-24页 |
2.3.3 外显子与内含子结构示意图 | 第24页 |
2.3.4 PtGSL7(PtCalS7)同源基因蛋白序列比对结果 | 第24-27页 |
第三章 低温短日照处理对胼胝质沉积的影响 | 第27-50页 |
3.1 前言 | 第27页 |
3.2 实验试剂 | 第27-28页 |
3.3 实验仪器 | 第28页 |
3.4 实验方法 | 第28-41页 |
3.4.1 植物材料的选取 | 第28-29页 |
3.4.2 植物材料的培养条件 | 第29页 |
3.4.3 杨树材料的取材及固定 | 第29-30页 |
3.4.4 徒手切片 | 第30页 |
3.4.5 温室中休眠期与活动期杨树的胼胝质沉积 | 第30-32页 |
3.4.6 创伤处理胼胝质沉积变化 | 第32-33页 |
3.4.7 低温(4 ℃)处理杨树胼胝质沉积变化 | 第33页 |
3.4.7.1 低温(4 ℃)处理活动期和休眠期杨树枝条 | 第33页 |
3.4.7.2 低温(4 ℃)处理完整杨树幼苗 | 第33页 |
3.4.8 短日照八周诱导杨树进入休眠 | 第33-34页 |
3.4.9 扫描电子显微镜 | 第34-36页 |
3.4.9.1 低温(4 ℃)黑暗与对照处理后SEM前预处理 | 第34-35页 |
3.4.9.2 梯度乙醇脱水 | 第35页 |
3.4.9.3 CO_2临界点干燥(LEICA EM CPD300) | 第35-36页 |
3.4.9.4 JEOL喷金机(JFC-1600) | 第36页 |
3.4.9.5 筛孔面积的统计分析 | 第36页 |
3.4.10实时荧光定量PCR | 第36-41页 |
3.4.10.1 杨树总RNA的提取 | 第37页 |
3.4.10.2 cDNA第一链的合成 | 第37-38页 |
3.4.10.3 实时荧光定量PCR的引物设计 | 第38-39页 |
3.4.10.4 实时荧光定量PCR的具体操作 | 第39-41页 |
3.5 结果与讨论 | 第41-50页 |
3.5.1 创伤诱导杨树胼胝质大量迅速的沉积 | 第41-42页 |
3.5.2 短日照处理能一定程度上地减少杨树胼胝质的沉积 | 第42-43页 |
3.5.3 低温处理对杨树胼胝质的沉积情况的影响 | 第43-45页 |
3.5.4 扫描电镜观察发现低温能导致筛孔的形态结构的改变 | 第45-47页 |
3.5.5 qRT-PCR的检测结果 | 第47-50页 |
3.5.5.1 杨树休眠期与活动期的基因相对表达量分析 | 第47-48页 |
3.5.5.2 杨树低温处理后的基因相对表达量分析 | 第48-50页 |
第五章 讨论及展望 | 第50-52页 |
参考文献 | 第52-59页 |
致谢 | 第59-60页 |
作者简介 | 第60-61页 |
导师简介1 | 第61-62页 |
导师简介2 | 第62-63页 |