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铜电解精炼过程中砷锑铋杂质分布及其脱除研究

摘要第3-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第10-32页
    1.1 引言第10-11页
    1.2 铜电解精炼工艺概述第11-12页
        1.2.1 传统铜电解精炼第11页
        1.2.2 电解精炼新技术第11-12页
    1.3 铜电解液的杂质及净化目的第12-14页
        1.3.1 铜电解液中杂质的行为及其危害第12-13页
        1.3.2 电解液净化的目的第13-14页
    1.4 电解液净化除杂的方法及其原理第14-20页
        1.4.1 净化除杂的主要方法第14-18页
        1.4.2 诱导脱铜除杂的原理第18-20页
    1.5 电解液净化研究与应用现状第20-23页
        1.5.1 国内外研究及应用现状第20页
        1.5.2 金川公司铜电解液净化技术现状第20-22页
        1.5.3 存在的主要问题第22-23页
    1.6 深度脱铜第23-27页
        1.6.1 深度脱铜技术原理第23-25页
        1.6.2 深度脱铜技术的应用第25-27页
    1.7 旋流电解第27-29页
        1.7.1 旋流电解技术及原理第27-28页
        1.7.2 旋流电解技术的应用第28-29页
    1.8 本文研究的意义及内容第29-32页
        1.8.1 研究的目的意义第29-31页
        1.8.2 拟研究主要内容第31-32页
2 As、Sb、Bi杂质在金川电解流程中的分布第32-41页
    2.1 金川铜电解工艺流程第32-34页
    2.2 实验方案第34页
    2.3 实验分析第34-38页
        2.3.1 阳极板中As、Sb、Bi杂质的含量情况第34-35页
        2.3.2 电解液中As、Sb、Bi杂质的含量情况第35-36页
        2.3.3 阴极铜中As、Sb、Bi杂质的含量情况第36-37页
        2.3.4 阳极泥中As、Sb、Bi杂质的含量情况第37-38页
    2.4 本章小结第38-41页
3 电解液净化生产实验第41-66页
    3.1 净化原料第41页
    3.2 净化生产流程第41页
    3.3 旋流电解技术的研究应用第41-46页
        3.3.1 应用原理第41-43页
        3.3.2 旋流电解生产工艺流程第43-44页
        3.3.3 旋流电解净化电解液试验第44-46页
    3.4 深度脱铜技术生产实践第46-50页
        3.4.1 技术原理第46-47页
        3.4.2 深度脱铜净化试验第47-50页
    3.5 诱导脱铜除杂工艺优化生产实验第50-56页
        3.5.1 技术原理第50-52页
        3.5.2 诱导脱铜试验第52-56页
    3.6 树脂除锑铋实验研究第56-57页
        3.6.1 实验原理第56页
        3.6.2 树脂除锑铋实验第56-57页
    3.7 SF-11树脂对除杂净化的影响第57-59页
    3.8 ADT及添加剂配比对净化效果的影响第59-62页
        3.8.1ADT选择机理第59-60页
        3.8.2 添加剂生产试验第60-62页
    3.9 电解液自净化试验研究第62-66页
        3.9.1 电解液自净化机理第62页
        3.9.2 电解液自净化试验第62-66页
4 结论第66-67页
参考 文献第67-71页
致谢第71页

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