摘要 | 第3-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第10-32页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 铜电解精炼工艺概述 | 第11-12页 |
1.2.1 传统铜电解精炼 | 第11页 |
1.2.2 电解精炼新技术 | 第11-12页 |
1.3 铜电解液的杂质及净化目的 | 第12-14页 |
1.3.1 铜电解液中杂质的行为及其危害 | 第12-13页 |
1.3.2 电解液净化的目的 | 第13-14页 |
1.4 电解液净化除杂的方法及其原理 | 第14-20页 |
1.4.1 净化除杂的主要方法 | 第14-18页 |
1.4.2 诱导脱铜除杂的原理 | 第18-20页 |
1.5 电解液净化研究与应用现状 | 第20-23页 |
1.5.1 国内外研究及应用现状 | 第20页 |
1.5.2 金川公司铜电解液净化技术现状 | 第20-22页 |
1.5.3 存在的主要问题 | 第22-23页 |
1.6 深度脱铜 | 第23-27页 |
1.6.1 深度脱铜技术原理 | 第23-25页 |
1.6.2 深度脱铜技术的应用 | 第25-27页 |
1.7 旋流电解 | 第27-29页 |
1.7.1 旋流电解技术及原理 | 第27-28页 |
1.7.2 旋流电解技术的应用 | 第28-29页 |
1.8 本文研究的意义及内容 | 第29-32页 |
1.8.1 研究的目的意义 | 第29-31页 |
1.8.2 拟研究主要内容 | 第31-32页 |
2 As、Sb、Bi杂质在金川电解流程中的分布 | 第32-41页 |
2.1 金川铜电解工艺流程 | 第32-34页 |
2.2 实验方案 | 第34页 |
2.3 实验分析 | 第34-38页 |
2.3.1 阳极板中As、Sb、Bi杂质的含量情况 | 第34-35页 |
2.3.2 电解液中As、Sb、Bi杂质的含量情况 | 第35-36页 |
2.3.3 阴极铜中As、Sb、Bi杂质的含量情况 | 第36-37页 |
2.3.4 阳极泥中As、Sb、Bi杂质的含量情况 | 第37-38页 |
2.4 本章小结 | 第38-41页 |
3 电解液净化生产实验 | 第41-66页 |
3.1 净化原料 | 第41页 |
3.2 净化生产流程 | 第41页 |
3.3 旋流电解技术的研究应用 | 第41-46页 |
3.3.1 应用原理 | 第41-43页 |
3.3.2 旋流电解生产工艺流程 | 第43-44页 |
3.3.3 旋流电解净化电解液试验 | 第44-46页 |
3.4 深度脱铜技术生产实践 | 第46-50页 |
3.4.1 技术原理 | 第46-47页 |
3.4.2 深度脱铜净化试验 | 第47-50页 |
3.5 诱导脱铜除杂工艺优化生产实验 | 第50-56页 |
3.5.1 技术原理 | 第50-52页 |
3.5.2 诱导脱铜试验 | 第52-56页 |
3.6 树脂除锑铋实验研究 | 第56-57页 |
3.6.1 实验原理 | 第56页 |
3.6.2 树脂除锑铋实验 | 第56-57页 |
3.7 SF-11树脂对除杂净化的影响 | 第57-59页 |
3.8 ADT及添加剂配比对净化效果的影响 | 第59-62页 |
3.8.1ADT选择机理 | 第59-60页 |
3.8.2 添加剂生产试验 | 第60-62页 |
3.9 电解液自净化试验研究 | 第62-66页 |
3.9.1 电解液自净化机理 | 第62页 |
3.9.2 电解液自净化试验 | 第62-66页 |
4 结论 | 第66-67页 |
参考 文献 | 第67-71页 |
致谢 | 第71页 |