氮化铝膜的生长及表面金属化工艺的研究
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 目录 | 第9-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-18页 |
| 1.1 氮化铝表面金属化技术概述 | 第11-15页 |
| 1.1.1 氮化铝概述 | 第11-13页 |
| 1.1.2 氮化铝陶瓷表面金属化的意义 | 第13-15页 |
| 1.2 论文的研究意义和主要研究内容 | 第15-18页 |
| 1.2.1 论文的研究意义 | 第15-16页 |
| 1.2.2 论文的主要研究内容 | 第16-17页 |
| 1.2.3 论文中所碰到的研究难点 | 第17页 |
| 1.2.4 论文中的实验创新点 | 第17-18页 |
| 第二章 薄膜的制备和金属化及其表征方法 | 第18-29页 |
| 2.1 薄膜传统制备方法 | 第18-20页 |
| 2.1.1 物理法 | 第18-19页 |
| 2.1.2 化学法 | 第19-20页 |
| 2.2 金属化技术 | 第20-24页 |
| 2.2.1 薄膜法 | 第21页 |
| 2.2.2 厚膜法 | 第21-22页 |
| 2.2.3 化学镀法 | 第22-23页 |
| 2.2.4 直接覆铜技术 | 第23-24页 |
| 2.3 AlN 薄膜的表征方法和测试原理 | 第24-29页 |
| 2.3.1 X 射线衍射 | 第24-25页 |
| 2.3.2 紫外-可见光分光光度计 | 第25-26页 |
| 2.3.3 扫描电子显微镜 | 第26页 |
| 2.3.4 原子力显微镜 | 第26-27页 |
| 2.3.5 台阶仪 | 第27页 |
| 2.3.6 原位纳米力学测试系统 | 第27-29页 |
| 第三章 AlN 薄膜的制备及其结构性能的研究 | 第29-45页 |
| 3.1 样品制备 | 第29-32页 |
| 3.1.1 实验设备 | 第30页 |
| 3.1.2 基板清洗 | 第30-32页 |
| 3.1.3 AlN 薄膜的制备 | 第32页 |
| 3.2 工艺参数对 AlN 薄膜性能的影响 | 第32-41页 |
| 3.2.1 不同工作压强对 AlN 薄膜的影响 | 第33-35页 |
| 3.2.2 不同氩氮分压比对 AlN 薄膜的影响 | 第35-37页 |
| 3.2.3 不同溅射功率对 AlN 薄膜的影响 | 第37-40页 |
| 3.2.4 不同基板温度对 AlN 薄膜的影响 | 第40-41页 |
| 3.3 生长前预处理 | 第41-43页 |
| 3.3.1 抛光 | 第41-42页 |
| 3.3.2 种籽晶 | 第42-43页 |
| 3.4 生长后酸处理 | 第43-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 AlN 薄膜表面的金属化 | 第45-57页 |
| 4.1 AlN-Ti 的制备和退火工艺 | 第45-46页 |
| 4.2 AlN-Ti 划痕实验和结果分析 | 第46-49页 |
| 4.3 AlN-Ti-Cu 的制备和退火工艺 | 第49-50页 |
| 4.4 AlN-Ti-Cu 划痕实验和结果分析 | 第50-54页 |
| 4.5 断面 SEM 分析 | 第54-55页 |
| 4.6 本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 结论与展望 | 第57-59页 |
| 5.1 结论 | 第57页 |
| 5.2 展望 | 第57-59页 |
| 附录 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 攻读硕士学位期间公开发表论文/申请专利 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
