| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 半导体光催化材料的作用机理 | 第10-11页 |
| 1.3 光催化反应活性的主要影响因素 | 第11-13页 |
| 1.3.1 能带结构的影响 | 第11-12页 |
| 1.3.2 比表面的影响 | 第12页 |
| 1.3.3 晶相结构的影响 | 第12-13页 |
| 1.4 现有光催化技术存在的问题 | 第13页 |
| 1.5 光催化材料的改性 | 第13-15页 |
| 1.5.1 掺杂改性 | 第14页 |
| 1.5.2 半导体的复合 | 第14页 |
| 1.5.3 贵金属沉积 | 第14-15页 |
| 1.6 本文的选题意义及结构 | 第15-16页 |
| 1.6.1 本文的选题意义 | 第15页 |
| 1.6.2 本论文的结构 | 第15-16页 |
| 参考文献 | 第16-19页 |
| 第二章 实验部分 | 第19-27页 |
| 2.1 主要试剂及仪器 | 第19-20页 |
| 2.1.1 主要试剂 | 第19页 |
| 2.1.2 主要实验设备 | 第19-20页 |
| 2.2 样品的制备 | 第20-22页 |
| 2.2.1 溶剂热法制备P25/(NH_4)_xWO_3纳米复合物 | 第20-21页 |
| 2.2.2 水热法制备具有宽光谱光催化活性的氧空位掺杂的SnO_2 | 第21-22页 |
| 2.3 样品的表征 | 第22-26页 |
| 2.3.1 X射线衍射测试（XRD） | 第22-23页 |
| 2.3.2 扫描电子显微镜测试（SEM） | 第23页 |
| 2.3.3 投射电子显微镜测试（TEM） | 第23页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱测试（XPS） | 第23-24页 |
| 2.3.5 紫外-可见-红外光吸收谱测试 | 第24页 |
| 2.3.6 荧光光谱测试（PL） | 第24页 |
| 2.3.7 比表面积测试（BET） | 第24页 |
| 2.3.8 电子自旋共振谱测试(ESR) | 第24页 |
| 2.3.9 光电化学性能测试 | 第24-25页 |
| 2.3.10 样品光催化性能测试 | 第25-26页 |
| 参考文献 | 第26-27页 |
| 第三章 P25/(NH_4)_xWO_3宽光谱响应的复合光催化剂的制备及其性能研究 | 第27-40页 |
| 3.1 引言 | 第27-28页 |
| 3.2 实验部分 | 第28-29页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第29-37页 |
| 3.3.1 物相、价态和形貌分析 | 第29-32页 |
| 3.3.2 比表面积及光学吸收特性分析 | 第32-33页 |
| 3.3.3 光催化活性及稳定性分析 | 第33-34页 |
| 3.3.4 稳定性分析 | 第34-36页 |
| 3.3.5 机理分析 | 第36-37页 |
| 3.4 结论 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-40页 |
| 第四章 实现宽光谱光催化活性的氧空位掺杂的SnO_2的制备及性能研究 | 第40-55页 |
| 4.1 引言 | 第40-41页 |
| 4.2 实验部分 | 第41-42页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第42-49页 |
| 4.3.1 物相结构及形貌分析 | 第42-43页 |
| 4.3.2 氧空位的表征 | 第43-45页 |
| 4.3.3 光吸收特性及能带结构的确定 | 第45-46页 |
| 4.3.4 样品光催化活性的评价 | 第46-49页 |
| 4.4 全光谱光催化机理 | 第49页 |
| 4.5 小结 | 第49-51页 |
| 参考文献 | 第51-55页 |
| 第五章 结论与展望 | 第55-57页 |
| 5.1 结论 | 第55-56页 |
| 5.2 展望 | 第56-57页 |
| 在学期间研究成果 | 第57-58页 |
| 一，发表的学术论文 | 第57页 |
| 二，申请中国专利 | 第57页 |
| 三，参加会议 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
