中文摘要 | 第3-4页 |
英文摘要 | 第4页 |
目录 | 第6-8页 |
引言 | 第8-12页 |
第一节:磁光存储技术 | 第8-9页 |
第二节:相变光存储 | 第9页 |
第三节:曝光型光存储技术 | 第9页 |
第四节:光谱烧孔技术 | 第9-10页 |
第五节:光全息存储技术 | 第10-12页 |
第二章:光致变色 | 第12-19页 |
第一节:光致变色的本质 | 第12-14页 |
2.1.1 光谱和颜色 | 第12页 |
2.1.2 光致变色的机理 | 第12-14页 |
第二节:光致变色化合物的种类 | 第14-19页 |
2.2.1 几何异构-顺反异构体的变色机理 | 第14-15页 |
2.2.2 质子转移型 | 第15页 |
2.2.3 键裂解反应 | 第15-17页 |
2.2.4 电荷转移型 | 第17-19页 |
第三章:螺噁嗪掺杂的聚合物薄膜的光致双折射的研究 | 第19-31页 |
第一节:光场感生双折射效应 | 第19-21页 |
3.1.1 光致折射率效应的物理机制 | 第19-20页 |
3.1.2 光致折射率改变的应用-光开关 | 第20-21页 |
第二节:螺噁嗪-部花青体系光致双折射的研究 | 第21-30页 |
3.2.1 螺噁嗪-部花青体系基本性质 | 第21-22页 |
3.2.2 哌啶基、氰基螺噁嗪的制备 | 第22-23页 |
3.2.3 光致变色过程 | 第23-24页 |
3.2.4 哌啶基螺噁嗪-部花青体系光致双折射的动力学过程 | 第24-30页 |
小结 | 第30-31页 |
第四章:螺噁嗪掺杂的聚合物薄膜的偏振全息记录研究 | 第31-42页 |
第一节:偏振全息光栅理论 | 第31-36页 |
4.1.1 两平面光波的叠加 | 第32-34页 |
4.1.2 具有不同偏振光束的叠加 | 第34-36页 |
第二节:伴随紫外光辐照的 SO/PMMA 偏振全息光栅的形成 | 第36-41页 |
4.2.1 哌啶基螺噁嗪紫外光预激发下的偏振全息记录 | 第36-37页 |
4.2.2 哌啶基螺噁嗪紫外光伴随下的偏振全息光栅的写入及擦除 | 第37-39页 |
4.2.3 氰基螺噁嗪偏振全息光栅的形成 | 第39-41页 |
小结 | 第41-42页 |
第五章:螺噁嗪/三氯甲烷溶液发光性质的研究 | 第42-45页 |
第一节:螺噁嗪/三氯甲烷的荧光光谱 | 第42-43页 |
第二节:螺噁嗪/三氯甲烷的荧光光谱随时间的变化的分析 | 第43-45页 |
结论 | 第45-46页 |
参考文献 | 第46-49页 |
致谢 | 第49-50页 |
硕士期间发表论文情况 | 第50页 |