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Mn、Co、Al掺杂SiC薄膜制备及其光敏性质研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 绪论第10-14页
   ·引言第10页
   ·SiC 的基本性质第10-12页
   ·目前国内外SiC 光敏性质研究现状及所存在的问题第12-13页
   ·本文的研究目的及内容第13-14页
第二章 薄膜的制备与表征第14-21页
   ·引言第14页
   ·SiC 晶体薄膜的制备第14-15页
   ·研究思路第15-16页
   ·实验材料与实验设备第16-17页
   ·样品的制备第17-18页
   ·样品的基本表征方法第18-20页
     ·X 射线衍射分析第18页
     ·扫描电子显微镜第18-19页
     ·荧光光谱仪第19页
     ·紫外-可见分光光度计第19页
     ·霍尔效应测量第19-20页
     ·X 射线光电子能谱第20页
   ·本章小结第20-21页
第三章 Mn 掺杂SiC 薄膜结构、形貌、电学与光学性质第21-32页
   ·引言第21页
   ·SiC 薄膜的结构和形貌第21-23页
   ·Mn 掺杂SiC 薄膜结构与成分分析第23-24页
   ·Mn 掺杂SiC 薄膜霍尔测量第24-25页
   ·Mn 掺杂SiC 薄膜光致发光谱(PL)分析及紫外吸收谱第25-27页
   ·Mn 掺杂SiC 薄膜光敏性质分析第27-31页
     ·不同浓度Mn 掺杂对SiC 薄膜光敏性质的影响第28-29页
     ·不同退火温度对Mn 掺杂SiC 薄膜光敏性质的影响第29-30页
     ·不同光照频率对Mn 掺杂SiC 薄膜光敏效应的影响第30页
     ·不同光照功率对Mn 掺杂SiC 薄膜光敏性质的影响第30-31页
   ·本章小结第31-32页
第四章 Co 掺杂SiC 薄膜结构、电学与光学性质第32-39页
   ·引言第32页
   ·Co 掺杂SiC 薄膜结构和成分分析第32-33页
   ·Co 掺杂SiC 薄膜霍尔测量第33-34页
   ·Co 掺杂SiC 薄膜PL 谱分析及紫外吸收谱第34-36页
   ·Co 掺杂SiC 薄膜光敏性质第36-38页
     ·不同浓度Co 掺杂对SiC 薄膜光敏性质的影响第36页
     ·不同退火温度对Co 掺杂SiC 薄膜光敏性质的影响第36-37页
     ·不同光照频率对Co 掺杂SiC 薄膜光敏效应的影响第37-38页
     ·不同光照功率对Co 掺杂SiC 薄膜光敏性质的影响第38页
   ·本章小结第38-39页
第五章 Al 掺杂SiC 薄膜结构、形貌、电学与光学性质第39-50页
   ·引言第39页
   ·Al 掺杂SiC 薄膜的结构、形貌及成分分析第39-42页
   ·Al 掺杂SiC 薄膜霍尔测量第42-43页
   ·Al 掺杂SiC 薄膜PL 谱分析及紫外发光谱第43-45页
   ·Al 掺杂SiC 薄膜光敏性质第45-49页
     ·不同浓度Al 掺杂对SiC 光敏性质的影响第45-46页
     ·不同退火温度对Al 掺杂SiC 薄膜光敏性质的影响第46-47页
     ·不同光照频率对Al 掺杂SiC 薄膜光敏效应的影响第47页
     ·同种掺杂浓度Mn、Co、Al 对SiC 薄膜光敏性质的影响第47-48页
     ·不同光照频率对Mn、Co、Al 掺杂SiC 薄膜光敏效应的影响第48-49页
   ·本章小结第49-50页
第六章 结论第50-51页
参考文献第51-55页
发表论文及科研情况第55-56页
致谢第56-57页

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