SiCN薄膜的制备及其光学参数的研究

摘要	第1-4页
Abstract	第4-8页
第一章 绪论	第8-21页
·SiCN薄膜的研究背景	第8-10页
·SiCN薄膜的特性	第10-14页
·SiCN薄膜的光学性质	第10-12页
·SiCN薄膜的机械性质	第12-13页
·SiCN薄膜的电学性质	第13-14页
·SiCN薄膜的理论	第14-21页
·SiCN的理论模型	第14-19页
·基于理论的实验	第19-21页
第二章 SiCN薄膜的制备	第21-37页
·薄膜制备方法概述	第21-26页
·物理制备方法	第21-23页
·化学气相沉积	第23-26页
·SiCN薄膜的制备	第26-33页
·实验仪器及装置	第26-29页
·SiCN薄膜的制备流程	第29-33页
·HFCVD系统中SiCN薄膜生长的影响因子	第33-37页
·衬底材料的选取及衬底的预处理	第33-34页
·衬底材料在反应腔内的再处理	第34页
·气源气体的选择	第34-35页
·热源温度、衬底温度	第35页
·反应腔压强	第35-37页
第三章 SiCN薄膜的表征	第37-47页
·表征薄膜材料的设备	第37-40页
·表面形貌—扫描电子显微镜和原子力显微镜	第37-38页
·晶体结构—X射线衍射	第38页
·微观组织和结构—透射电子显微镜	第38-39页
·元素分析—X射线光电子能谱	第39页
·分子的特征结构-傅立叶红外吸收光谱	第39-40页
·SiCN薄膜表征	第40-47页
·SiCN薄膜的表征	第40-44页
·SiCN薄膜制备工艺及影响薄膜性能因素的探讨	第44-47页
第四章 SiCN薄膜的光学参数及分析	第47-70页
·实验仪器	第47-48页
·理论模型	第48-50页
·测量数据及分析	第50-68页
·N元素对薄膜光学参数的影响	第50-56页
·Si元素对薄膜光学参数的影响	第56-62页
·C元素对薄膜光学参数的影响	第62-68页
·测量结果的小结	第68-70页
参考文献	第70-76页
攻读硕士学位期间取得的学术成果	第76-77页
致谢	第77-78页