摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
1.1 课题背景 | 第11页 |
1.2 硅基薄膜的研究现状 | 第11-15页 |
1.2.1 非晶硅(a-Si:H)薄膜的研究现状 | 第12-14页 |
1.2.2 氮化硅(a-SiNx:H)薄膜的研究意义 | 第14-15页 |
1.3 可调谐Fabry-Perot滤波器简介 | 第15-19页 |
1.3.1 可调谐Fabry-Perot滤波器的分类 | 第15-17页 |
1.3.2 热光可调谐Fabry-Perot薄膜滤波器的研究进展 | 第17-19页 |
1.4 本文选题依据及内容安排 | 第19-21页 |
第二章 光学薄膜理论与硅基薄膜的制备测试技术 | 第21-30页 |
2.1 光学薄膜特性分析 | 第21-24页 |
2.1.1 单层介质薄膜的特性分析 | 第21-22页 |
2.1.2 多层介质薄膜的特性分析 | 第22-24页 |
2.2 硅基薄膜的制备与测试 | 第24-29页 |
2.2.1 PECVD制备非晶硅薄膜 | 第24-27页 |
2.2.2 硅基薄膜的分析测试方法 | 第27-29页 |
2.3 本章小结 | 第29-30页 |
第三章 薄膜滤波器结构设计及优化 | 第30-41页 |
3.1 硅基热光可调谐F-P薄膜滤波器的结构设计 | 第30-32页 |
3.1.1 全介质F-P薄膜滤波器的原理及参数表征 | 第30-31页 |
3.1.2 硅基热光可调谐F-P薄膜滤波器的设计 | 第31-32页 |
3.2 多层介质DBR反射特性研究 | 第32-35页 |
3.2.1 折射率比对DBR的反射特性的影响 | 第33-34页 |
3.2.2 周期数对DBR的反射特性的影响 | 第34-35页 |
3.3 硅基热光可调谐F-P薄膜滤波器的透射特性优化设计 | 第35-39页 |
3.3.1 膜层材料的选择 | 第35-36页 |
3.3.2 硅基热光可调谐F-P薄膜滤波器中DBR对称性的研究 | 第36-37页 |
3.3.3 DBR的周期数对滤波器透射特性的影响 | 第37页 |
3.3.4 腔层光学厚度对滤波器透射特性的影响 | 第37-38页 |
3.3.5 多腔结构对滤波器透射特性的影响 | 第38-39页 |
3.4 硅基热光可调谐F-P薄膜滤波器的热光调谐特性研究 | 第39-40页 |
3.5 本章小结 | 第40-41页 |
第四章 硅基薄膜均匀性与光学特性可控技术研究 | 第41-63页 |
4.1 引言 | 第41页 |
4.2 a-Si:H薄膜的制备及性能分析 | 第41-52页 |
4.2.1 a-Si:H薄膜的实验设计 | 第41-42页 |
4.2.2 a-Si:H薄膜的均匀性研究 | 第42-46页 |
4.2.3 a-Si:H薄膜的光学性质研究 | 第46-52页 |
4.3 a-SiNx:H薄膜的制备及性能分析 | 第52-61页 |
4.3.1 a-SiNx:H薄膜的实验设计 | 第52-53页 |
4.3.2 a-SiNx:H薄膜的均匀性研究 | 第53-56页 |
4.3.3 a-SiNx:H薄膜的光学性质研究 | 第56-61页 |
4.4 本章小结 | 第61-63页 |
第五章 高反射率反射结构理论设计及工艺验证 | 第63-72页 |
5.1 引言 | 第63页 |
5.2 硅基介质DBR理论分析 | 第63-66页 |
5.2.1 介质DBR结构设计基础 | 第63-65页 |
5.2.2 介质DBR结构可行性研究 | 第65-66页 |
5.3 硅基介质DBR的工艺制备及性能分析 | 第66-71页 |
5.3.1 PECVD制备多层介质DBR | 第66-67页 |
5.3.2 介质DBR性能工艺验证及分析 | 第67-71页 |
5.4 本章小结 | 第71-72页 |
第六章 多层介质薄膜滤波器工艺制备及性能测试 | 第72-80页 |
6.1 引言 | 第72页 |
6.2 硅基F-P薄膜滤波器的理论设计及工艺制备 | 第72-75页 |
6.2.1 硅基F-P薄膜滤波器结构设计 | 第72-73页 |
6.2.2 多层薄膜滤波器衬底的选择 | 第73-74页 |
6.2.3 多层薄膜滤波器的工艺制备 | 第74-75页 |
6.3 硅基F-P薄膜滤波器的性能分析 | 第75-78页 |
6.4 本章小结 | 第78-80页 |
第七章 总结 | 第80-82页 |
7.1 本文工作总结 | 第80-81页 |
7.2 展望 | 第81-82页 |
致谢 | 第82-83页 |
参考文献 | 第83-88页 |
攻读硕士学位期间研究成果 | 第88-89页 |