透明ZnS薄膜材料生长及其性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 前言 | 第8-22页 |
| 1.1 ZnS的各种性质 | 第8-11页 |
| 1.2 ZnS应用领域和相关进展 | 第11-15页 |
| 1.2.1 透明电极领域 | 第11-12页 |
| 1.2.2 发光显示领域 | 第12-13页 |
| 1.2.3 新型薄膜太阳能电池领域 | 第13-14页 |
| 1.2.4 其它应用 | 第14-15页 |
| 1.3 ZnS材料在相关领域所应用的制备方法 | 第15-19页 |
| 1.3.1 物理气相沉积（PVD） | 第15-17页 |
| 1.3.1.1 真空蒸镀 | 第15-16页 |
| 1.3.1.2 溅射 | 第16-17页 |
| 1.3.1.3 外延生长 | 第17页 |
| 1.3.1.4 脉冲激光（PLD）制膜技术 | 第17页 |
| 1.3.2 化学气相沉积（CVD） | 第17-18页 |
| 1.3.3 化学浴沉积法 | 第18-19页 |
| 1.4 磁控溅射技术发展 | 第19-21页 |
| 1.4.1 传统磁控溅射 | 第19-20页 |
| 1.4.2 反应式磁控溅射 | 第20页 |
| 1.4.3 中频和脉冲磁控溅射 | 第20-21页 |
| 1.4.4 磁控溅射当代进展 | 第21页 |
| 1.5 本文研究的目的和意义 | 第21-22页 |
| 第2章 实验设计 | 第22-24页 |
| 2.1 ZnS薄膜样品的制备方案 | 第22页 |
| 2.2 实验设备 | 第22-23页 |
| 2.3 样品测试和分析手段 | 第23-24页 |
| 第3章 退火对ZnS薄膜性能的影响 | 第24-36页 |
| 3.1 样品制备 | 第24页 |
| 3.2 结果分析和讨论 | 第24-36页 |
| 3.2.1 ZSZ样品退火前后的研究 | 第24-31页 |
| 3.2.1.1 XRD分析 | 第24-25页 |
| 3.2.1.2 光学性质分析 | 第25-28页 |
| 3.2.1.3 形貌分析 | 第28-31页 |
| 3.2.1.4 成分分析 | 第31页 |
| 3.2.2 退火温度对ZnS薄膜性能的影响 | 第31-36页 |
| 3.2.2.1 光学性质分析 | 第32-33页 |
| 3.2.2.2 XRD分析 | 第33-36页 |
| 第4章 成分对ZnS薄膜光学性能的影响 | 第36-43页 |
| 4.1 样品制备 | 第36页 |
| 4.2 结果分析与讨论 | 第36-43页 |
| 4.2.1 S适量ZSZ结构 | 第36-39页 |
| 4.2.2 S过量ZSZ结构 | 第39-41页 |
| 4.2.3 S欠量ZSZ结构 | 第41-43页 |
| 第5章 结论和展望 | 第43-44页 |
| 参考文献 | 第44-49页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第49-50页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第50页 |
