| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 重金属铬简介 | 第9-11页 |
| 1.2.1 薄膜过滤法去除Cr(Ⅵ) | 第10页 |
| 1.2.2 离子交换技术去除Cr(Ⅵ) | 第10页 |
| 1.2.3 电化学技术去除Cr(Ⅵ) | 第10页 |
| 1.2.4 吸附法去除Cr(Ⅵ) | 第10-11页 |
| 1.2.5 光催化还原Cr(Ⅵ) | 第11页 |
| 1.3 光催化的研究进展 | 第11-19页 |
| 1.3.1 光催化基本原理 | 第12-13页 |
| 1.3.2 光催化技术的应用 | 第13-16页 |
| 1.3.3 光催化剂的研究现状 | 第16-17页 |
| 1.3.4 光催化剂的合成方法 | 第17-19页 |
| 1.4 光催化剂的改性 | 第19-21页 |
| 1.4.1 贵金属的负载 | 第19-20页 |
| 1.4.2 离子掺杂 | 第20页 |
| 1.4.3 半导体的复合 | 第20-21页 |
| 1.5 氮化碳光催化剂的研究进展 | 第21-23页 |
| 1.6 二硫化锡光催化剂的研究进展 | 第23-24页 |
| 1.7 课题研究的主要内容和意义 | 第24-25页 |
| 第二章 SnS_2/g-C_3N_4光催化复合材料的制备及其应用 | 第25-59页 |
| 2.1 引言 | 第25-26页 |
| 2.2 实验部分 | 第26-31页 |
| 2.2.1 主要实验试剂 | 第26-27页 |
| 2.2.2 主要实验仪器 | 第27-28页 |
| 2.2.3 催化剂的表征 | 第28-29页 |
| 2.2.4 光催化剂催化性能实验 | 第29-31页 |
| 2.3 催化剂的制备 | 第31-33页 |
| 2.3.1 g-C_3N_4的制备 | 第31-32页 |
| 2.3.2 SnS_2的制备 | 第32页 |
| 2.3.3 复合材料SnS_2/g-C_3N_4的制备 | 第32-33页 |
| 2.4 SnS_2/g-C_3N_4复合材料的表征 | 第33-46页 |
| 2.4.1 X-射线衍射(XRD) | 第33-34页 |
| 2.4.2 傅里叶变换红外光谱图(FT-IR) | 第34页 |
| 2.4.3 紫外可见漫反射吸收光谱、能带结构示意图 | 第34-39页 |
| 2.4.4 X射线光电子能谱 | 第39-41页 |
| 2.4.5 比表面积及孔径分布 | 第41-42页 |
| 2.4.6 扫描电镜、透射电镜分析 | 第42-45页 |
| 2.4.7 荧光分析 | 第45页 |
| 2.4.8 交流阻抗 | 第45-46页 |
| 2.5 催化剂的光催化活性研究 | 第46-58页 |
| 2.5.1 光催化降解 | 第46-48页 |
| 2.5.2 复合材料SCN30循环降解实验以及稳定性分析 | 第48-50页 |
| 2.5.3 不同pH条件下光催化剂的性能分析 | 第50-54页 |
| 2.5.4 光催化机理探究 | 第54-58页 |
| 2.6 本章小结 | 第58-59页 |
| 第三章 结论与展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 研究成果 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
