小型化离子阱质量分析器的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·研究背景和意义 | 第10-11页 |
| ·研究现状 | 第11-14页 |
| ·国外研究现状 | 第11-13页 |
| ·国内研究现状 | 第13-14页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第14-15页 |
| ·本章小结 | 第15-16页 |
| 第二章 离子阱质谱仪理论分析 | 第16-30页 |
| ·质谱仪基本工作原理和组成 | 第16-19页 |
| ·真空系统 | 第16-18页 |
| ·进样系统 | 第18页 |
| ·离化源 | 第18页 |
| ·离子传输系统 | 第18页 |
| ·质量分析器 | 第18页 |
| ·检测系统 | 第18-19页 |
| ·质谱仪的性能指标 | 第19-21页 |
| ·分辨率 | 第19-20页 |
| ·质量范围 | 第20页 |
| ·灵敏度 | 第20-21页 |
| ·扫描速度 | 第21页 |
| ·离子阱质量分析器 | 第21-29页 |
| ·三维离子阱工作原理分析 | 第21-27页 |
| ·离子阱的四极场原理 | 第21-25页 |
| ·离子的稳定性分析 | 第25-27页 |
| ·矩形离子阱基本结构和工作原理 | 第27-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 矩形离子阱质量分析器的研究 | 第30-48页 |
| ·离子阱性能的仿真研究 | 第30-44页 |
| ·矩形离子阱几何模型 | 第30-31页 |
| ·仿真程序设计 | 第31-34页 |
| ·离子初始位置的产生方式 | 第31-32页 |
| ·动态捕获模式 | 第32页 |
| ·延迟捕获模式 | 第32页 |
| ·离子弹出方式 | 第32-33页 |
| ·碰撞过程 | 第33-34页 |
| ·影响离子阱捕获效率的非加工因素 | 第34-38页 |
| ·离子初始坐标对捕获效率的影响 | 第34-35页 |
| ·射频电压和频率对捕获效率的影响 | 第35-36页 |
| ·可被有效捕获的离子质量范围的研究 | 第36-37页 |
| ·不同的RF 电压下，捕获效率随时间的变化情况 | 第37页 |
| ·结论 | 第37-38页 |
| ·几种典型的装配误差对离子阱性能的影响 | 第38-44页 |
| ·x_0/y_0对矩形离子阱性能的影响 | 第38-40页 |
| ·横向截面同一性对矩形离子阱性能的影响 | 第40-42页 |
| ·电极间距误差对矩形离子阱性能的影响 | 第42-43页 |
| ·电极对准误差对矩形离子阱性能的影响 | 第43页 |
| ·结论 | 第43-44页 |
| ·矩形离子阱电场的优化设计 | 第44页 |
| ·矩形离子阱的加工设计 | 第44-46页 |
| ·实验测试结果分析及讨论 | 第46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 基于MEMS 工艺的平板线型离子阱的研究 | 第48-57页 |
| ·平板线型离子阱质量分析器 | 第48-51页 |
| ·几何结构 | 第48-50页 |
| ·工作原理 | 第50-51页 |
| ·平板线型离子阱的仿真研究 | 第51-54页 |
| ·平板线型离子阱性能仿真 | 第51-53页 |
| ·捕获效率 | 第51-52页 |
| ·弹出效率 | 第52-53页 |
| ·影响平板线型离子阱性能的因素 | 第53-54页 |
| ·静电键合时的对准问题 | 第53页 |
| ·表面电荷的影响 | 第53-54页 |
| ·板线型离子阱质量分析器的 MEMS 加工方法 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 基于MEMS 工艺的菱形离子阱的研究 | 第57-64页 |
| ·菱形离子阱质量分析器 | 第57-58页 |
| ·菱形离子阱几何结构 | 第57页 |
| ·工作原理 | 第57-58页 |
| ·菱形离子阱的优点 | 第58页 |
| ·菱形离子阱性能的仿真研究 | 第58-60页 |
| ·捕获效率 | 第58-59页 |
| ·弹出效率 | 第59-60页 |
| ·菱形离子阱的加工方法 | 第60-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 第六章 工作总结与展望 | 第64-66页 |
| ·主要工作总结 | 第64页 |
| ·主要创新点 | 第64-65页 |
| ·未来工作展望 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 在读期间发表的学术论文和取得的研究成果 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70页 |
