| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 课题背景及研究的意义 | 第10-11页 |
| 1.2 硅烷偶联剂 | 第11-17页 |
| 1.2.1 硅烷偶联剂的概况 | 第11-12页 |
| 1.2.2 硅烷偶联剂作用机理 | 第12-14页 |
| 1.2.3 影响硅烷偶联剂水解的因素 | 第14-16页 |
| 1.2.4 硅烷偶联剂应用现状 | 第16-17页 |
| 1.3 有机树脂防护涂层 | 第17-22页 |
| 1.3.1 有机防护涂层概述 | 第18-21页 |
| 1.3.2 自愈合防护涂层 | 第21-22页 |
| 1.4 课题的主要研究内容 | 第22-24页 |
| 第2章 实验部分 | 第24-31页 |
| 2.1 实验材料与仪器 | 第24-25页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第24-25页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第25页 |
| 2.2 实验内容 | 第25-29页 |
| 2.2.1 镁合金表面硅烷转化膜的制备 | 第25-27页 |
| 2.2.2 添加稀土元素对硅烷转化膜防护性能影响 | 第27页 |
| 2.2.3 镁合金表面有机-无机环氧复合自愈合涂层的制备 | 第27-29页 |
| 2.3 测试与表征 | 第29-31页 |
| 2.3.1 材料的物理表征 | 第29-30页 |
| 2.3.2 试样的抗蚀性能研究 | 第30-31页 |
| 第3章 硅烷偶联剂转化膜的制备 | 第31-45页 |
| 3.1 硅烷偶联剂的羟基化工艺 | 第31-42页 |
| 3.1.1 γ-氨丙基三乙氧基硅烷（KH550）羟基化过程 | 第31-36页 |
| 3.1.2 γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷（KH570）的羟基化过程 | 第36-42页 |
| 3.2 镁合金表面两种硅烷膜的性能对比 | 第42-44页 |
| 3.2.1 硅烷转化膜显微形貌分析 | 第42-43页 |
| 3.2.2 电化学测试 | 第43-44页 |
| 3.3 本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 稀土元素对硅烷转化膜抗蚀性能的影响 | 第45-56页 |
| 4.1 KH570硅烷膜结构的表征 | 第45-46页 |
| 4.2 硅烷膜的抗蚀性能 | 第46-53页 |
| 4.2.1 极化曲线 | 第46-47页 |
| 4.2.2 电化学阻抗谱 | 第47-53页 |
| 4.3 膜层微观形貌分析 | 第53-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第5章 镁合金表面自愈合复合涂层的制备及性能研究 | 第56-71页 |
| 5.1 有序介孔SiO_2纳米容器 | 第56-58页 |
| 5.1.1 XRD分析 | 第56-57页 |
| 5.1.2 纳米容器孔结构分析 | 第57-58页 |
| 5.1.3 纳米容器中缓蚀剂负载量分析 | 第58页 |
| 5.2 涂层的抗蚀性能分析 | 第58-66页 |
| 5.2.1 电化学阻抗谱分析 | 第58-64页 |
| 5.2.2 人工划痕实验 | 第64-66页 |
| 5.3 红外光谱分析 | 第66-67页 |
| 5.4 复合涂层微观形貌分析 | 第67-69页 |
| 5.5 本章小结 | 第69-71页 |
| 结论 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-81页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和取得的科研成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
