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日光温室起垄内嵌式基质栽培增产机制研究

摘要第6-8页
abstract第8-10页
第一章 引言第18-30页
    1.1 研究背景第18-21页
        1.1.1 日光温室设施及其蔬菜生产现状第18页
        1.1.2 日光温室蔬菜生产中的资源环境问题第18-19页
        1.1.3 日光温室蔬菜无土栽培技术发展及应用现状第19-20页
        1.1.4 日光温室作物根区及冠层调控现状及不足第20-21页
        1.1.5 日光温室环境调控的关键点第21页
    1.2 国内外研究进展第21-28页
        1.2.1 日光温室根区温度对作物生理生态的影响第21-26页
        1.2.2 日光温室根区高、低温调控进展第26-27页
        1.2.3 日光温室作物栽培技术装备第27页
        1.2.5 日光温室作物水肥管理技术第27-28页
    1.3 研究内容及方法第28-29页
    1.4 研究思路第29-30页
第二章 日光温室SSC方法的构建及甜椒产量效应研究第30-40页
    2.1 材料与方法第30-32页
        2.1.1 试验材料第30-31页
        2.1.2 试验设计第31-32页
        2.1.3 观测指标第32页
    2.2 结果与分析第32-38页
        2.2.1 低温阶段4种栽培垄中心根区温度的变化及其差异第32-34页
        2.2.2 高温阶段4种栽培垄中心根区温度的变化及其差异第34-36页
        2.2.3 起垄内嵌式基质栽培对甜椒生长的影响第36-37页
        2.2.4 起垄内嵌式基质栽培对甜椒产量的影响第37页
        2.2.5 起垄内嵌式基质栽培的水肥(营养液)用量分析第37-38页
    2.3 结论与讨论第38-40页
第三章 日光温室SSC方法蓄热保温性能及甜椒增产机理研究第40-50页
    3.1 材料与方法第40-42页
        3.1.1 试验材料第40页
        3.1.2 试验设计第40-41页
        3.1.3 观测指标第41-42页
    3.2 结果与分析第42-48页
        3.2.1 栽培垄根区与日光温室内、外温度的变化规律第42页
        3.2.2 垄宽和嵌入深度及土壤包被差异对栽培垄根区温热变化的影响第42-46页
        3.2.3 垄宽和嵌入深度及土壤包被差异对甜椒生长的影响第46-47页
        3.2.4 垄宽和嵌入深度及土壤包被差异对甜椒产量的影响第47-48页
        3.2.5 起垄内嵌式基质栽培方式的水肥(营养液)用量优化分析第48页
    3.3 结论与讨论第48-50页
第四章 LED补光和根区加温对日光温室SSC甜椒生长及产量效应研究第50-58页
    4.1 材料与方法第50-52页
        4.1.1 试验材料第50-51页
        4.1.2 试验设计第51页
        4.1.3 观测指标第51-52页
    4.2 结果与分析第52-56页
        4.2.1 日光温室内、外气温及根区温度变化规律第52-53页
        4.2.2 根区加温条件下甜椒根区侧面与垂直方向热通量变化规律第53-54页
        4.2.3 根区加温和LED补光对甜椒生长的影响第54-55页
        4.2.4 根区加温和LED补光对甜椒产量的影响第55-56页
    4.3 结论与讨论第56-58页
第五章 日光温室SSC方法的隔热降温性能机理研究第58-66页
    5.1 材料与方法第58-59页
        5.1.1 试验材料第58-59页
        5.1.2 试验设计第59页
        5.1.3 观测项目第59页
    5.2 结果与分析第59-64页
        5.2.1 地膜类型对SSC垄膜下温度的影响第59-60页
        5.2.2 地膜类型对SSC垄根区温度的影响第60-62页
        5.2.3 地膜类型对SSC垄根区热通量的影响第62-63页
        5.2.4 地膜类型对番茄幼苗生长的影响第63-64页
    5.3 结论与讨论第64-66页
第六章 全文结论第66-68页
参考文献第68-77页
致谢第77-78页
作者简历第78-79页

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