| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 概述 | 第9-20页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·YBCO 超导材料的应用 | 第10-12页 |
| ·强电领域的应用 | 第10-12页 |
| ·弱电领域的应用 | 第12页 |
| ·高温超导带材的研究现状 | 第12-15页 |
| ·第一代Bi 系高温超导带材研究现状 | 第12-13页 |
| ·第二代Y 系高温超导带材研究现状 | 第13-15页 |
| ·缓冲层的选择与制备方法 | 第15-18页 |
| ·缓冲层材料的选择 | 第15-17页 |
| ·缓冲层的制备方法 | 第17-18页 |
| ·本论文的选题依据和研究思路 | 第18-20页 |
| 第二章 实验原理和方法 | 第20-30页 |
| ·直流磁控反应溅射法原理 | 第20-21页 |
| ·实验装置 | 第21-24页 |
| ·实验使用的靶材 | 第22页 |
| ·实验使用的基带 | 第22-24页 |
| ·实验使用的气体 | 第24页 |
| ·实验中采用的表征方法 | 第24-30页 |
| ·YYC 缓冲层的结构表征 | 第25-26页 |
| ·YYC 缓冲层的形貌表征 | 第26-27页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第26页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第26-27页 |
| ·YYC 缓冲层的均匀性表征 | 第27-28页 |
| ·YBCO 超导层的电性能表征 | 第28-30页 |
| 第三章 种子层的制备研究 | 第30-43页 |
| ·Y_2O_3 种子层的制备研究 | 第30-39页 |
| ·沉积温度的影响 | 第30-33页 |
| ·水分压的影响 | 第33-34页 |
| ·工作气压的影响 | 第34-35页 |
| ·基带卷绕速率的影响 | 第35-39页 |
| ·CeO_2 种子层与Y_2O_3 种子层的对比研究 | 第39-41页 |
| ·沉积温度对CeO_2 种子层的影响 | 第39-40页 |
| ·卷绕速率对CeO_2 种子层的影响 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 YYC 三层缓冲层的制备研究 | 第43-58页 |
| ·阻挡层YSZ 的生长制备研究 | 第43-44页 |
| ·模板层CeO_2 的生长制备研究 | 第44-47页 |
| ·CeO_2 模板层的结构与表面形貌分析 | 第45-46页 |
| ·CeO_2 模板层电子背散射衍射分析 | 第46-47页 |
| ·YYC 缓冲层的双面一致性分析 | 第47-50页 |
| ·YYC 缓冲层带材的均匀性分析 | 第50-51页 |
| ·缓冲层上的YBCO 带材的研究 | 第51-56页 |
| ·模板层对YBCO 的生长影响 | 第51-53页 |
| ·阻挡层对YBCO 的生长影响 | 第53-54页 |
| ·种子层对YBCO 的生长影响 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第65-66页 |