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二氧化碳发泡聚合物过程中的气泡成核密度泛函理论研究

摘要第5-8页
ABSTRACT第8-9页
符号说明第16-19页
第一章 绪论第19-33页
    1.1 聚合物发泡材料第19-21页
        1.1.1 微孔发泡第20-21页
        1.1.2 纳孔发泡第21页
    1.2 发泡工艺第21-23页
    1.3 气泡成核机理第23-24页
        1.3.1 均相气泡成核第23-24页
        1.3.2 非均相气泡成核第24页
    1.4 聚合物发泡的理论基础第24-30页
        1.4.1 经典成核理论第25-27页
        1.4.2 密度泛函理论第27-30页
    1.5 本文的研究思路和研究内容第30-33页
第二章 CO_2在聚合物中的溶解及聚合物膨胀第33-55页
    2.1 引言第33-35页
    2.2 理论模型第35-43页
        2.2.1 DFT第35-40页
        2.2.2 溶解度和膨胀系数第40页
        2.2.3 聚合物的化学位平衡第40-43页
    2.3 聚合物分子内结构因子的分子动力学模拟第43-46页
    2.4 结果与讨论第46-54页
        2.4.1 确定PMMA、PS、PP以及PCL的力场参数第46-48页
        2.4.2 CO_2在聚合物体系中的溶解度第48-51页
        2.4.3 聚合物体系的膨胀系数第51-54页
    2.5 本章小结第54-55页
第三章 气相主体与溶解CO_2后聚合物熔体的界面结构及性质第55-69页
    3.1 引言第55-56页
    3.2 理论模型第56页
    3.3 结果与讨论第56-67页
        3.3.1 气体-熔体界面密度分布第57-64页
        3.3.2 气体-熔体界面张力第64-67页
    3.4 本章小结第67-69页
第四章 PMMA和PS发泡及纳米SiO_2诱导的微气泡成核第69-93页
    4.1 引言第69-71页
    4.2 理论模型第71-74页
        4.2.1 密度泛函理论第71-72页
        4.2.2 气泡成核的一维近似计算第72-74页
        4.2.3 Tolman长度和气泡成核数第74页
    4.3 结果与讨论第74-92页
        4.3.1 PMMA/CO_2和PS/CO_2体系的过饱和性质第75-81页
        4.3.2 Tolman长度和接触角第81-84页
        4.3.3 气泡成核第84-92页
    4.4 本章小结第92-93页
第五章 低温CO_2发泡聚己内酯的三维空间气泡成核第93-109页
    5.1 引言第93-94页
    5.2 理论部分第94-96页
    5.3 构建聚己内酯表面结构第96-97页
    5.4 结果与讨论第97-106页
        5.4.1 PCL/CO_2体系的过饱和密度第98-101页
        5.4.2 气泡成核第101-106页
    5.5 本章小结第106-109页
第六章 聚丙烯中氟化POSS纳尺度粗糙表面的微气泡成核第109-125页
    6.1 引言第109-110页
    6.2 理论模型第110-111页
    6.3 结果与讨论第111-122页
        6.3.1 模型检验第111-112页
        6.3.2 纳米颗粒的分散性第112-113页
        6.3.3 过饱和性质和界面张力第113-116页
        6.3.4 气泡成核第116-122页
    6.4 本章小结第122-125页
第七章 结论和创新点第125-129页
    7.1 结论第125-126页
    7.2 创新点第126-129页
参考文献第129-141页
致谢第141-143页
研究成果及已发表的论文第143-145页
作者简介第145-147页
导师简介第147-149页
附件第149-150页

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