| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题来源 | 第9页 |
| 1.2 微机电系统（MEMS）技术的发展及研究现状 | 第9-10页 |
| 1.3 微流控芯片发展现状 | 第10-12页 |
| 1.4 痕量探测技术的发展现状 | 第12-13页 |
| 1.4.1 光谱探测技术 | 第12页 |
| 1.4.2 离子迁移谱探测技术(IMS) | 第12页 |
| 1.4.3 微机电系统探测技术 | 第12-13页 |
| 1.5 COMSOL Multiphysics软件介绍 | 第13-16页 |
| 1.6 问题剖析 | 第16页 |
| 1.7 本论文的主要内容及章节安排 | 第16-18页 |
| 第2章 微尺度流动的基础理论与研究方法 | 第18-24页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 微尺度流动的重要参数介绍 | 第18-20页 |
| 2.2.1 雷诺（Reynolds）数 | 第18-19页 |
| 2.2.2 克努森(Knudsen)数 | 第19-20页 |
| 2.3 微尺度流动的基本控制方程 | 第20-22页 |
| 2.3.1 粘性流动的纳维-斯托克斯（Navier-Stokes）方程 | 第20-21页 |
| 2.3.2 对流扩散的控制方程 | 第21-22页 |
| 2.3.3 边界条件 | 第22页 |
| 2.4 微尺度流动的数值模拟方法 | 第22-23页 |
| 2.4.1 连续性模型 | 第23页 |
| 2.4.2 分子模型 | 第23页 |
| 2.5 本章小结 | 第23-24页 |
| 第3章 微流道中基底银溶胶团聚数值模拟 | 第24-37页 |
| 3.1 引言 | 第24-25页 |
| 3.2 基于微流控-SERS的基底银溶胶团聚的数值模拟 | 第25-30页 |
| 3.2.1 自由表面微流道几何模型及其简化 | 第25-26页 |
| 3.2.2 控制方程 | 第26-27页 |
| 3.2.3 网格剖分 | 第27-28页 |
| 3.2.4 边界条件及求解器设定 | 第28-29页 |
| 3.2.5 仿真材料属性及相关参数设置 | 第29-30页 |
| 3.3 求解结果分析 | 第30-36页 |
| 3.3.1 二聚体最大浓度特性分析 | 第30-33页 |
| 3.3.2 二聚体最大浓度位置特性分析 | 第33-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 微泵的选型及数值模拟 | 第37-58页 |
| 4.1 引言 | 第37页 |
| 4.2 微泵的类型 | 第37-40页 |
| 4.3 静电微泵泵膜的频域特性分析 | 第40-43页 |
| 4.3.1 静电微泵泵膜干模态特性分析 | 第40-41页 |
| 4.3.2 静电微泵泵膜湿模态特性分析 | 第41-43页 |
| 4.4 静电微泵的静电-结构-流体三相耦合动态特性分析 | 第43-56页 |
| 4.4.1 静电微泵的多场耦合问题 | 第43-44页 |
| 4.4.2 静电微泵三相耦合数值模拟 | 第44-50页 |
| 4.4.3 求解结果分析 | 第50-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-58页 |
| 第5章 微流道、静电微泵的的制作工艺 | 第58-69页 |
| 5.1 引言 | 第58页 |
| 5.2 微流道的制作工艺设计 | 第58-63页 |
| 5.2.1 微流道的设计及工艺路线的确定 | 第58-60页 |
| 5.2.2 微流道材料的选定 | 第60-61页 |
| 5.2.3 掩膜版的设计 | 第61-62页 |
| 5.2.4 微流道光刻工艺及参数确定 | 第62-63页 |
| 5.2.5 微流道刻蚀工艺及参数确定 | 第63页 |
| 5.3 静电微泵的制作工艺设计 | 第63-68页 |
| 5.3.1 泵体制作的工艺路线确定 | 第63-65页 |
| 5.3.2 泵体材料的选定 | 第65-66页 |
| 5.3.3 泵体光刻工艺及参数确定 | 第66页 |
| 5.3.4 泵体与泵膜的封装键合 | 第66-68页 |
| 5.4 本章小结 | 第68-69页 |
| 结论 | 第69-71页 |
| 1 全文总结 | 第69-70页 |
| 2 工作展望 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-75页 |
| 攻读学位期间取得的学术成果 | 第75页 |
