| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 主要符号表 | 第13-14页 |
| 1 绪论 | 第14-26页 |
| 1.1 前言 | 第14-16页 |
| 1.2 热致变色材料简介 | 第16-23页 |
| 1.3 单晶硅(Si)材料简介 | 第23页 |
| 1.4 本文主要工作简介 | 第23-26页 |
| 2 一维、二维周期性热致变色材料的制备 | 第26-44页 |
| 2.1 钙钛矿型材料的制备方法概述 | 第26-28页 |
| 2.1.1 钙钛矿型材料的主要制备方法 | 第26-27页 |
| 2.1.2 固相反应法简介 | 第27-28页 |
| 2.2 块体热致变色材料的制备 | 第28-35页 |
| 2.2.1 具体实验方法与流程 | 第28-33页 |
| 2.2.2 材料的性能表征 | 第33-35页 |
| 2.3 光刻蚀技术介绍 | 第35-39页 |
| 2.3.1 光刻工艺概述 | 第35-37页 |
| 2.3.2 刻蚀技术概述 | 第37-39页 |
| 2.4 周期性微结构的构造 | 第39-43页 |
| 2.4.1 具体实验过程 | 第39-42页 |
| 2.4.2 微结构的性能表征 | 第42-43页 |
| 2.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 3 一维、二维周期性热致变色材料的热辐射光谱特性研究 | 第44-54页 |
| 3.1 微结构表面的反射性能研究 | 第44-49页 |
| 3.1.1 测试方法 | 第44-45页 |
| 3.1.2 测试结果分析 | 第45-49页 |
| 3.2 微结构表面的光谱发射率研究 | 第49-53页 |
| 3.2.1 发射率的计算方法 | 第49-50页 |
| 3.2.2 实验结果分析 | 第50-53页 |
| 3.3 本章小结 | 第53-54页 |
| 4 三维有序大孔(3DOM)热致变色材料的制备 | 第54-76页 |
| 4.1 胶晶模板法介绍 | 第54-58页 |
| 4.1.1 胶体微球概述 | 第55页 |
| 4.1.2 胶体晶体模板的组装 | 第55-56页 |
| 4.1.3 目标产物的渗透、填充 | 第56-57页 |
| 4.1.4 胶体晶体模板的去除 | 第57-58页 |
| 4.2 具体实验过程 | 第58-68页 |
| 4.2.1 主要实验试剂 | 第59页 |
| 4.2.2 PS胶体微球的合成 | 第59-61页 |
| 4.2.3 PS胶体晶体的组装 | 第61-66页 |
| 4.2.4 前驱物溶液的渗透、填充 | 第66-67页 |
| 4.2.5 3DOM材料的制备 | 第67-68页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第68-75页 |
| 4.3.1 煅烧温度对3DOM材料的影响 | 第68-69页 |
| 4.3.2 材料组分对3DOM材料的影响 | 第69-71页 |
| 4.3.3 胶体微球粒径对3DOM材料的影响 | 第71-72页 |
| 4.3.4 胶晶模板层数对3DOM材料的影响 | 第72-73页 |
| 4.3.5 氧气通入量对3DOM材料的影响 | 第73页 |
| 4.3.6 前驱溶液溶剂对3DOM材料的影响 | 第73-74页 |
| 4.3.7 填充次数对3DOM材料的影响 | 第74页 |
| 4.3.8 有机溶剂腐蚀去除胶体晶体模板 | 第74-75页 |
| 4.4 本章小结 | 第75-76页 |
| 5 三维有序大孔(3DOM)热致变色材料的热辐射光谱特性研究 | 第76-88页 |
| 5.1 PS胶体晶体的光学性能研究 | 第76-79页 |
| 5.1.1 布拉格(Bragg)衍射 | 第76-77页 |
| 5.1.2 PS胶体晶体的透射性能研究 | 第77-79页 |
| 5.2 3DOM材料的热辐射性能研究 | 第79-84页 |
| 5.2.1 3DOM材料的透射性能研究 | 第79-80页 |
| 5.2.2 3DOM材料的反射性能研究 | 第80-82页 |
| 5.2.3 3DOM材料的光谱发射率研究 | 第82-84页 |
| 5.3 热平衡法测试3DOM材料的热辐射性能 | 第84-87页 |
| 5.3.1 3DOM材料的相变特性研究 | 第84-85页 |
| 5.3.2 3DOM材料的光谱发射率研究 | 第85-87页 |
| 5.4 本章小结 | 第87-88页 |
| 6 单晶硅(Si)微结构表面的制备及其热辐射光谱特性研究 | 第88-109页 |
| 6.1 单晶硅(Si)微结构表面的制备 | 第88-101页 |
| 6.1.1 刻蚀方法介绍 | 第88-90页 |
| 6.1.2 具体实验过程 | 第90-93页 |
| 6.1.3 刻蚀结果分析 | 第93-101页 |
| 6.2 单晶硅(Si)微结构表面的光学性能研究 | 第101-107页 |
| 6.2.1 测试方法介绍 | 第101-102页 |
| 6.2.2 测试结果分析 | 第102-107页 |
| 6.3 本章小结 | 第107-109页 |
| 7 结束语 | 第109-114页 |
| 7.1 主要结论 | 第109-111页 |
| 7.2 主要创新点 | 第111-112页 |
| 7.3 下一步工作展望 | 第112-114页 |
| 致谢 | 第114-115页 |
| 攻读博士期间发表的相关论文 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-127页 |
