摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第9-17页 |
1.1 课题背景及研究目的 | 第9-11页 |
1.1.1 课题背景 | 第9-10页 |
1.1.2 研究目的及意义 | 第10-11页 |
1.2 热电材料的研究现状 | 第11-12页 |
1.3 热电薄膜的研究现状 | 第12-13页 |
1.4 分子动力学的发展现状及应用前景 | 第13-14页 |
1.5 Mg_2Si热电材料的研究现状及应用前景 | 第14-15页 |
1.6 主要研究内容 | 第15-17页 |
第2章 建立分子动力学模型 | 第17-29页 |
2.1 引言 | 第17页 |
2.2 分子动力学方法相关理论 | 第17-28页 |
2.2.1 势能函数 | 第17-19页 |
2.2.2 初始状态 | 第19-20页 |
2.2.3 边界条件 | 第20-21页 |
2.2.4 作用力计算 | 第21-25页 |
2.2.5 无量纲及物理量计算 | 第25-27页 |
2.2.6 截断半径 | 第27-28页 |
2.3 本章小结 | 第28-29页 |
第3章 Mg_2Si的平衡态模拟 | 第29-41页 |
3.1 引言 | 第29页 |
3.2 速度算法 | 第29-31页 |
3.3 时间步长选取与验证 | 第31-34页 |
3.4 程序流程 | 第34页 |
3.5 主要子程序简介 | 第34-38页 |
3.6 Mg_2Si的平衡态模拟 | 第38-40页 |
3.7 本章小结 | 第40-41页 |
第4章 Mg_2Si材料的力学性能研究 | 第41-53页 |
4.1 引言 | 第41页 |
4.2 Mg_2Si块体力学性能 | 第41-46页 |
4.2.1 基本设置 | 第41-45页 |
4.2.2 温度对Mg_2Si块体力学性能的影响 | 第45-46页 |
4.3 Mg_2Si纳米薄膜力学性能 | 第46-51页 |
4.3.1 基本设置 | 第46-47页 |
4.3.2 温度对Mg_2Si纳米薄膜力学性能的影响 | 第47-48页 |
4.3.3 厚度对Mg_2Si纳米薄膜力学性能的影响 | 第48-50页 |
4.3.4 缺位对Mg_2Si纳米薄膜力学性能的影响 | 第50-51页 |
4.4 本章小结 | 第51-53页 |
第5章 Mg_2Si材料的热学性能研究 | 第53-63页 |
5.1 引言 | 第53页 |
5.2 热传导的计算方法 | 第53-55页 |
5.3 Mg_2Si块体热学性能 | 第55-57页 |
5.3.1 基本设置 | 第55页 |
5.3.2 温度对Mg_2Si块体热学性能的影响 | 第55-57页 |
5.4 Mg_2Si纳米薄膜热学性能 | 第57-62页 |
5.4.1 基本设置 | 第57-58页 |
5.4.2 温度对Mg_2Si纳米薄膜热学性能的影响 | 第58-59页 |
5.4.3 厚度对Mg_2Si纳米薄膜热学性能的影响 | 第59-60页 |
5.4.4 缺位对Mg_2Si纳米薄膜热学性能的影响 | 第60-62页 |
5.5 本章小结 | 第62-63页 |
结论与展望 | 第63-64页 |
参考文献 | 第64-70页 |
致谢 | 第70页 |