| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 纳米金刚石薄膜简介 | 第11-19页 |
| 1.1.1 纳米金刚石薄膜的结构特点 | 第11-12页 |
| 1.1.2 纳米金刚石薄膜的制备方法 | 第12-14页 |
| 1.1.3 纳米金刚石薄膜的性质及其应用 | 第14-19页 |
| 1.2 纳米金刚石薄膜掺杂的研究概况 | 第19-20页 |
| 1.3 掺硼纳米金刚石薄膜的特性及其应用 | 第20-22页 |
| 1.4 本论文的研究内容和目的 | 第22-23页 |
| 第2章 实验装置及表征手段 | 第23-33页 |
| 2.1 纳米金刚石薄膜的制备装置 | 第23-27页 |
| 2.1.1 微波源及微波传输系统 | 第24-26页 |
| 2.1.2 反应腔体 | 第26页 |
| 2.1.3 进气系统和保护系统 | 第26-27页 |
| 2.2 纳米金刚石薄膜掺硼装置 | 第27-29页 |
| 2.2.1 微波系统和进气系统 | 第28页 |
| 2.2.2 反应腔体和保护系统 | 第28-29页 |
| 2.3 薄膜表征手段 | 第29-33页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜 | 第29-30页 |
| 2.3.2 原子力显微镜 | 第30页 |
| 2.3.3 X射线衍射仪 | 第30-31页 |
| 2.3.4 激光拉曼光谱 | 第31页 |
| 2.3.5 四探针电阻测试仪 | 第31-32页 |
| 2.3.6 二次离子质谱仪 | 第32页 |
| 2.3.7 多载流子分析系统 | 第32-33页 |
| 第3章 纳米金刚石薄膜本征层的制备 | 第33-49页 |
| 3.1 基片预处理 | 第33-34页 |
| 3.2 甲烷浓度对纳米金刚石薄膜生长的影响 | 第34-38页 |
| 3.3 Ar/H_2流量比对纳米金刚石薄膜生长的影响 | 第38-43页 |
| 3.4 沉积气压对纳米金刚石薄膜的影响 | 第43-45页 |
| 3.5 微波功率对纳米金刚石薄膜的影响 | 第45-46页 |
| 3.6 优化工艺后纳米金刚石薄膜的制备 | 第46-47页 |
| 3.7 本章小结 | 第47-49页 |
| 第4章 纳米金刚石膜的p型掺杂与电性能检测 | 第49-59页 |
| 4.1 纳米金刚石薄膜掺硼实验过程 | 第49-50页 |
| 4.2 硼源浓度对纳米金刚石薄膜掺硼的影响 | 第50-55页 |
| 4.3 衬底温度对纳米金刚石薄膜掺硼的影响 | 第55-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 全文总结 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第73页 |