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红外雪崩光电二极管暗电流成份分析和机理研究

致谢第4-5页
摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
1 引言第8-17页
    1.1 红外探测技术简介第8-12页
    1.2 铟镓砷红外探测器研究背景第12-13页
    1.3 碲镉汞红外探测器研究背景第13-14页
    1.4 雪崩光电二极管简介第14-16页
    1.5 本论文的主要研究内容第16-17页
2 APD模拟仿真方法与基本理论第17-26页
    2.1 器件仿真模型及方法第17-20页
        2.1.1 数值仿真模型第17-18页
        2.1.2 Sentaurus TCAD模拟仿真平台简介第18-19页
        2.1.3 研究技术路线第19-20页
    2.2 APD器件暗电流基本理论第20-25页
        2.2.1 扩散电流第21页
        2.2.2 产生-复合电流第21-24页
        2.2.3 隧穿电流第24页
        2.2.4 碰撞离化电流第24-25页
        2.2.5 表面漏电流第25页
    2.3 本章小结第25-26页
3 InGaAs/InP雪崩光电二极管的暗电流分析第26-33页
    3.1 InGaAs/InP雪崩光电二极管简介第26-27页
    3.2 器件结构第27-29页
    3.3 吸收层参数以及温度对暗电流的影响第29-32页
    3.4 本章小结第32-33页
4 平面结/台面结HgCd Te雪崩光电二极管特性研究第33-41页
    4.1 碲镉汞电子雪崩二极管的基本原理第33-35页
    4.2 器件结构与物理模型第35-36页
    4.3 器件参数对平面结/台面结暗电流与增益特性的影响第36-39页
    4.4 本章小结第39-41页
5 总结和展望第41-43页
    5.1 结论第41页
    5.2 展望第41-43页
参考文献第43-47页
在学期间发表的学术论文与研究成果第47页

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