| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第12-27页 |
| 1.1 传统聚合物微纳米结构加工技术 | 第14-18页 |
| 1.2 电场诱导聚合物微纳米结构成形技术 | 第18-24页 |
| 1.2.1 电场诱导聚合物微纳米结构成形技术的分类 | 第18-23页 |
| 1.2.2 空间调制电场诱导微纳米结构成形技术的应用 | 第23-24页 |
| 1.3 空间调制电场诱导微纳米结构成形技术亟待解决的问题 | 第24-25页 |
| 1.4 论文的主要研究工作 | 第25-27页 |
| 2 空间调制电场诱导聚合物成形机理 | 第27-44页 |
| 2.1 两相流动力学模型 | 第27-36页 |
| 2.1.1 电流体动力学分析 | 第27-31页 |
| 2.1.2 微纳尺度效应 | 第31-34页 |
| 2.1.3 两相流动力学模型的验证 | 第34-36页 |
| 2.2 空间调制电场聚合物流变行为分析 | 第36-42页 |
| 2.2.1 数值理论分析 | 第36-40页 |
| 2.2.2 实验观察研究 | 第40-42页 |
| 2.3 本章小结 | 第42-44页 |
| 3 空间调制电场作用强/弱调制机理及规律 | 第44-63页 |
| 3.1 强/弱调制现象及其产生原因 | 第44-47页 |
| 3.2 空间均匀电场复形的流体动力学分析 | 第47-57页 |
| 3.2.1 空间均匀电场诱导成形机理 | 第48-55页 |
| 3.2.2 空间均匀电场最不稳定波长的实验验证 | 第55-56页 |
| 3.2.3 最不稳定波长对强/弱调制状态的影响 | 第56-57页 |
| 3.3 空间调制电场强/弱调制参量化分析 | 第57-61页 |
| 3.3.1 空间调制电场强/弱调制表征参量 | 第57-58页 |
| 3.3.2 工艺参数对强/弱调制表征参量的影响 | 第58-61页 |
| 3.4 本章小结 | 第61-63页 |
| 4 空间调制电场诱导大深宽比结构复形工艺研究 | 第63-80页 |
| 4.1 导电聚合物的空间调制电场诱导成形 | 第63-72页 |
| 4.1.1 工艺机理研究 | 第64-70页 |
| 4.1.2 工艺实验研究 | 第70-72页 |
| 4.2 预结构聚合物的空间调制电场诱导成形 | 第72-78页 |
| 4.2.1 工艺机理研究 | 第73-77页 |
| 4.2.2 工艺实验研究 | 第77-78页 |
| 4.3 本章小结 | 第78-80页 |
| 5 变尺寸结构复形的调制状态研究 | 第80-96页 |
| 5.1 变尺寸复形的调制状态及机理分析 | 第80-87页 |
| 5.1.1 强/弱调制状态的定义 | 第80-86页 |
| 5.1.2 调制状态机理分析 | 第86-87页 |
| 5.2 变尺寸复形调制状态的特征参量表征 | 第87-94页 |
| 5.2.1 强/弱调制区域的提出 | 第87-91页 |
| 5.2.2 工艺参数对强/弱调制区域的影响 | 第91-93页 |
| 5.2.3 强/弱调制区域划分合理性的验证 | 第93-94页 |
| 5.3 本章小结 | 第94-96页 |
| 6 基于强/弱调制状态复形的微纳米结构制造及应用 | 第96-119页 |
| 6.1 空间调制电场诱导多级结构 | 第96-111页 |
| 6.1.1 平膜聚合物的多级结构制备 | 第98-103页 |
| 6.1.2 预结构化聚合物的多级结构制备 | 第103-106页 |
| 6.1.3 电场诱导多级结构复形的多样性 | 第106-108页 |
| 6.1.4 多级结构的超疏水特性 | 第108-111页 |
| 6.2 空间调制电场诱导微透镜阵列结构 | 第111-117页 |
| 6.2.1 强调制状态复形固化时间的选择 | 第112-113页 |
| 6.2.2 微透镜阵列的曲率控制 | 第113-116页 |
| 6.2.3 微透镜阵列成形多样性及光学性能测试 | 第116-117页 |
| 6.3 本章小结 | 第117-119页 |
| 7 结论与展望 | 第119-122页 |
| 7.1 结论 | 第119-120页 |
| 7.2 本论文的创新点 | 第120-121页 |
| 7.3 展望 | 第121-122页 |
| 致谢 | 第122-123页 |
| 参考文献 | 第123-130页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果和获奖情况 | 第130-134页 |
