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半导体三极管综合测试系统的硬件研究与实现

摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 绪论第9-12页
    1.1 课题背景第9-10页
        1.1.1 半导体三极管的发展状况第9页
        1.1.2 半导体三极管测试产业发展概况第9-10页
        1.1.3 半导体三极管生产厂家发展状况第10页
    1.2 课题研究意义第10-11页
    1.3 课题来源及研究内容第11页
        1.3.1 课题来源第11页
        1.3.2 论文研究内容第11页
    1.4 本章小结第11-12页
第二章 半导体三极管直流参数测量方法的研究第12-26页
    2.1 半导体三极管直流放大倍数第12-17页
        2.1.1 放大倍数的测量原理与条件第12页
        2.1.2 影响测试放大倍数的因素第12-14页
        2.1.3 放大倍数的测试方法第14-17页
    2.2 半导体三极管漏电流第17-21页
        2.2.1 漏电流的测试原理与条件第17-18页
        2.2.2 漏电流的测试方法第18-21页
    2.3 半导体三极管饱和参数第21-22页
        2.3.1 饱和参数测试原理与条件第21页
        2.3.2 饱和参数测试方法第21-22页
    2.4 半导体三极管反向耐压第22-25页
        2.4.1 反向耐压测试原理与条件第22-23页
        2.4.2 反向耐压测试方法第23-25页
    2.5 本章小结第25-26页
第三章 测试系统的硬件设计方案第26-50页
    3.1 系统的整体设计方案第26-27页
    3.2 CPU部分第27-32页
        3.2.2 电源设计第27-28页
        3.2.3 复位设计第28页
        3.2.4 时钟设计第28-29页
        3.2.5 I/O接口第29-30页
        3.2.6 调试接口第30-31页
        3.2.7 CPU及相关外围电路原理图第31-32页
    3.3 高精度AD/DA电路第32-34页
        3.3.1 模数转换电路设计第32-33页
        3.3.2 数模转换电路的设计第33-34页
    3.4 基极电流I_B部分第34-37页
        3.4.1 基极程控电流源第34-35页
        3.4.2 独立AD/DA第35页
        3.4.3 光耦隔离第35-37页
    3.5 集电极电流I_C部分第37-39页
    3.6 漏电流检测部分第39-40页
    3.7 饱和压降测试部分第40-41页
    3.8 反向耐压高压部分第41-42页
    3.9 继电器切换矩阵第42-44页
    3.10 系统电源第44-48页
        3.10.1 常用电平及恒压源电路第44-45页
        3.10.2 基极隔离电源电路第45-46页
        3.10.3 电源反馈控制电路第46-47页
        3.10.4 钳位保护电路第47-48页
    3.11 TTL串口通信第48-49页
    3.12 本章小结第49-50页
第四章 系统的调试及实验验证第50-64页
    4.1 上位机软件连接调试第50页
    4.2 各项参数的校准第50-51页
    4.3 程控电压源及电流源验证实验第51-54页
        4.3.1 测试仪器精度的表达方式第51-52页
        4.3.2 程控电压源验证实验第52-53页
        4.3.3 基极电流验证实验第53页
        4.3.4 集电极电流验证实验第53-54页
    4.4 放大倍数测量实验第54-56页
    4.5 漏电流测量实验第56-58页
    4.6 饱和压降测试实验第58-60页
    4.7 反向耐压测试实验第60-62页
    4.8 实际器件参数指标的测试实验第62-63页
    4.9 本章小结第63-64页
第五章 总结与展望第64-65页
参考文献第65-67页
致谢第67-68页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第68页

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