摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-23页 |
1.1 引言 | 第9页 |
1.2 全钒氧化还原液流电池 | 第9-14页 |
1.2.1 全钒液流电池的工作原理 | 第10页 |
1.2.2 全钒液流电池的结构组成 | 第10-12页 |
1.2.3 全钒液流电池的应用 | 第12-13页 |
1.2.4 全钒液流电池的研究进展 | 第13-14页 |
1.3 全钒液流电池隔膜 | 第14-18页 |
1.3.1 基于Nafion膜改性的研究 | 第15-17页 |
1.3.2 非氟系列隔膜的研究 | 第17-18页 |
1.4 氧化石墨烯简介 | 第18-19页 |
1.5 本论文的选题意义和研究内容 | 第19-23页 |
1.5.1 本论文的选题意义 | 第19-20页 |
1.5.2 本论文研究内容 | 第20-23页 |
第二章 实验材料与方法 | 第23-31页 |
2.1 实验试剂与仪器 | 第23-25页 |
2.1.1 实验试剂 | 第23-24页 |
2.1.2 实验仪器 | 第24-25页 |
2.2 实验分析项目 | 第25-31页 |
2.2.1 结构与性能表征 | 第25页 |
2.2.2 膜结构与性能表征 | 第25-31页 |
第三章 钒电池用GO与SPEEK共混膜的制备与性能表征 | 第31-43页 |
3.1 SPEEK的制备 | 第31页 |
3.2 SPEEK/GO共混膜的制备 | 第31页 |
3.3 SPEEK/GO共混膜的电池性能 | 第31-33页 |
3.3.1 共混膜与Nafion115隔膜的处理 | 第32页 |
3.3.2 电极预处理 | 第32页 |
3.3.3 集流体预处理 | 第32页 |
3.3.4 电解液的制备 | 第32-33页 |
3.4 NMR测试SPEEK的磺化度 | 第33-34页 |
3.5 SPEEK/GO共混膜性能测试结果与讨论 | 第34-41页 |
3.5.1 FT-IR分析 | 第34页 |
3.5.2 TG分析 | 第34-35页 |
3.5.3 TEM/SEM表征 | 第35-36页 |
3.5.4 含水量(WU)与IEC | 第36页 |
3.5.5 钒离子渗透率 | 第36-37页 |
3.5.6 质子电导率与离子选择性 | 第37-38页 |
3.5.7 力学性能 | 第38-39页 |
3.5.8 氧化稳定性 | 第39页 |
3.5.9 单电池性能测试 | 第39-41页 |
3.6 本章小结 | 第41-43页 |
第四章 磺酸基修饰GO与SPEEK共混膜的制备与性能表征 | 第43-53页 |
4.1 磺化氧化石墨烯(SGO)的制备 | 第43-44页 |
4.2 SPEEK/SGO共混膜的制备 | 第44页 |
4.3 SGO的结构表征FT-IR | 第44-45页 |
4.4 SPEEK/SGO共混膜的性能测试结果与讨论 | 第45-50页 |
4.4.1 TG分析 | 第45页 |
4.4.2 SEM分析 | 第45-46页 |
4.4.3 含水量(WU)与离子交换容量(IEC) | 第46页 |
4.4.4 质子电导率与离子选择性 | 第46-47页 |
4.4.5 钒离子渗透率 | 第47页 |
4.4.6 力学性能 | 第47-48页 |
4.4.7 氧化稳定性 | 第48-49页 |
4.4.8 电池性能 | 第49-50页 |
4.5 本章小结 | 第50-53页 |
第五章 氨基修饰GO与SPEEK共混膜的制备与性能表征 | 第53-65页 |
5.1 GO-NH_2的制备 | 第53页 |
5.2 SPEEK与GO-NH_2共混膜的制备 | 第53-54页 |
5.3 GO-NH_2的结构表征 | 第54-56页 |
5.3.1 GO-NH_2的FTIR表征 | 第54-55页 |
5.3.2 GO-NH_2的XPS表征 | 第55-56页 |
5.4 SPEEK/GO-NH_2共混膜的性能测试结果与讨论 | 第56-62页 |
5.4.1 TG | 第56页 |
5.4.2 SEM | 第56-57页 |
5.4.3 含水量(WU)与IEC | 第57页 |
5.4.4 质子电导率与离子选择性 | 第57-58页 |
5.4.5 钒离子渗透率 | 第58-59页 |
5.4.6 拉伸测试 | 第59页 |
5.4.7 氧化性测试 | 第59-60页 |
5.4.8 单电池性能 | 第60-62页 |
5.5 本章小结 | 第62-65页 |
第六章 结论与展望 | 第65-67页 |
6.1 结论 | 第65-66页 |
6.2 展望 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-75页 |
攻读硕士学位期间发表论文情况 | 第75-77页 |
致谢 | 第77页 |