离子束溅射制备光学薄膜的研究

致谢	第1-5页
摘要	第5-6页
Abstract	第6-9页
第一章 绪论	第9-19页
·光学薄膜应用概述	第9页
·光学薄膜的常用制备方法	第9-11页
·离子束溅射技术的发展	第11-14页
·色散补偿薄膜简介	第14-16页
·本论文的研究内容和创新点	第16-17页
参考文献	第17-19页
第二章 离子束溅射原理及系统介绍	第19-29页
·离子束溅射的原理	第19-23页
·离子束溅射系统结构介绍	第23-27页
·射频离子源	第23-26页
·中和器	第26-27页
·小结	第27-28页
参考文献	第28-29页
第三章 离子束溅射沉积薄膜材料特性研究	第29-53页
·实验条件	第29-30页
·材料特性研究	第30-49页
·光学特性	第31-36页
·应力分析	第36-41页
·薄膜微结构	第41-49页
·膜厚均匀性修正	第49-50页
·小结	第50-52页
参考文献	第52-53页
第四章 多层光学薄膜制备的研究	第53-70页
·离子束溅射沉积速率特性研究	第53-57页
·时间监控方式制备薄膜	第57-59页
·石英晶体监控方式制备薄膜	第59-64页
·色散补偿薄膜的制备	第64-68页
·小结	第68-69页
参考文献	第69-70页
第五章 总结与展望	第70-72页
作者简介	第72页