HFCVD法制备金刚石膜以及工艺参数对薄膜的影响
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| ·金刚石的结构及分类 | 第12-15页 |
| ·金刚石的结构 | 第12-13页 |
| ·金刚石的分类 | 第13-15页 |
| ·金刚石的性质 | 第15-19页 |
| ·力学性质 | 第16页 |
| ·电学性质 | 第16-17页 |
| ·热学性质 | 第17-18页 |
| ·光学性质 | 第18-19页 |
| ·其他性能 | 第19页 |
| ·金刚石薄膜的应用 | 第19-21页 |
| ·金刚石薄膜在机械方面的应用 | 第20页 |
| ·金刚石薄膜在热学方面的应用 | 第20页 |
| ·金刚石薄膜在光学方面的应用 | 第20-21页 |
| ·金刚石薄膜在电学方面的应用 | 第21页 |
| ·金刚石薄膜在其他领域的应用 | 第21页 |
| ·金刚石薄膜研究进展 | 第21-23页 |
| ·本文研究意义及研究内容 | 第23-26页 |
| 第二章 CVD沉积金刚石薄膜原理 | 第26-30页 |
| ·热丝法 | 第26-27页 |
| ·微波等离子体法 | 第27页 |
| ·其他制备方法 | 第27-28页 |
| ·几种CVD法优缺点比较 | 第28-30页 |
| 第三章 HFCVD法制备金刚石薄膜及表征手段 | 第30-38页 |
| ·HFCVD实验装置及原理 | 第30-32页 |
| ·实验材料选择 | 第32-33页 |
| ·气源选择 | 第32页 |
| ·基体选择和预处理 | 第32页 |
| ·热丝的选择 | 第32-33页 |
| ·沉积金刚石薄膜的操作步骤 | 第33页 |
| ·样品表征手段 | 第33-38页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第34页 |
| ·激光拉曼光谱 | 第34-35页 |
| ·XRD衍射 | 第35-38页 |
| 第四章 CVD参数对金刚石薄膜生长的影响 | 第38-58页 |
| ·反应温度对沉积金刚石薄膜的影响 | 第38-42页 |
| ·表面形貌分析 | 第38-40页 |
| ·微观结构分析 | 第40-42页 |
| ·反应气压对沉积金刚石薄膜的影响 | 第42-51页 |
| ·表面形貌分析 | 第43-46页 |
| ·微观结构分析 | 第46-51页 |
| ·衬底对沉积金刚石薄膜的影响 | 第51-58页 |
| ·工艺参数 | 第51-52页 |
| ·表面形貌分析 | 第52-53页 |
| ·微观结构分析 | 第53-58页 |
| 第五章 单晶金刚石颗粒改性 | 第58-62页 |
| ·单晶金刚石颗粒预处理 | 第58-59页 |
| ·采用的化学试剂及其性质 | 第58页 |
| ·操作流程 | 第58-59页 |
| ·单晶金刚石表面沉积金刚石薄膜及表征 | 第59-62页 |
| ·表面形貌分析 | 第59-60页 |
| ·微观结构分析 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 作者简介、攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第74页 |
