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基于激光拉曼光谱的硅—玻璃阳极键合界面应力的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 绪论第10-22页
   ·课题研究的背景与意义第10-16页
     ·微机电系统与阳极键合第10页
     ·阳极键合原理介绍第10-11页
     ·阳极键合国内外研究进展第11-15页
     ·阳极键合存在的问题第15-16页
   ·拉曼光谱法研究阳极键合的优点及创新性第16-21页
     ·拉曼光谱法研究阳极键合的可行性第16-17页
     ·原位拉曼光谱法及其研究阳极键合的具体过程第17-19页
     ·分子动力学研究阳极键合的氧化过程第19-21页
   ·研究目标、内容及章节安排第21-22页
     ·研究目标第21页
     ·研究内容第21页
     ·章节安排第21-22页
第2章 拉曼光谱法测阳极键合应力的实验方法研究第22-35页
   ·拉曼光谱简介第22-24页
     ·拉曼散射第22-23页
     ·拉曼光谱谱线第23-24页
   ·拉曼光谱测量应力的基本理论第24-27页
     ·晶格动力学方程第24-25页
     ·单晶硅的拉曼频移与应力第25-26页
     ·拉曼光谱测应力的相关技术问题第26-27页
   ·阳极键合实验过程第27-30页
     ·实验条件的选取第27页
     ·实验材料第27-28页
     ·实验材料的清洗第28-29页
     ·阳极键合设备及工艺第29-30页
   ·拉曼光谱应力测量过程与结果讨论第30-34页
     ·共聚焦显微拉曼光谱仪介绍第30页
     ·拉曼光谱力学测量的主要流程第30-32页
     ·实验结果及分析第32-34页
   ·本章小节第34-35页
第3章 原位拉曼光谱法研究阳极键合第35-53页
   ·原位阳极键合装置的研制第35-41页
     ·原位阳极键合装置的结构设计第36-39页
     ·原位阳极键合装置的调试第39-41页
   ·原位拉曼阳极键合实验过程第41-43页
     ·原位拉曼阳极键合设备条件参数的选定第41-42页
     ·原位阳极键合拉曼信号采集过程第42-43页
   ·原位阳极键合结果与讨论第43-51页
     ·阳极键合状态量的监控结果第43-44页
     ·升温过程拉曼信号测量结果与讨论第44-45页
     ·通电过程拉曼信号测量结果与讨论第45-46页
     ·降温过程拉曼信号测量结果与讨论第46-48页
     ·拉曼光谱应力测试结果与有限元模拟的比较第48-51页
   ·本章小结第51-53页
第4章 分子动力学模拟阳极键合界面过程第53-62页
   ·分子动力学模拟阳极键合界面结构的建模与分析第53-57页
     ·阳极键合界面结构模型的建立第53-54页
     ·模拟的具体方法第54-55页
     ·阳极键合界面单晶硅应变量的估计方法第55-57页
   ·分子动力学模拟结果与讨论第57-61页
     ·阳极键合界面SiO_2形态的确定第57-59页
     ·阳极键合界面氧化动力学的探讨第59-61页
   ·本章小结第61-62页
第5章 总结与展望第62-64页
   ·全文总结第62页
   ·创新点第62-63页
   ·建议与展望第63-64页
参考文献第64-69页
致谢第69-70页
攻读硕士学位期间的科研情况第70页

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