基于激光拉曼光谱的硅—玻璃阳极键合界面应力的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·课题研究的背景与意义 | 第10-16页 |
| ·微机电系统与阳极键合 | 第10页 |
| ·阳极键合原理介绍 | 第10-11页 |
| ·阳极键合国内外研究进展 | 第11-15页 |
| ·阳极键合存在的问题 | 第15-16页 |
| ·拉曼光谱法研究阳极键合的优点及创新性 | 第16-21页 |
| ·拉曼光谱法研究阳极键合的可行性 | 第16-17页 |
| ·原位拉曼光谱法及其研究阳极键合的具体过程 | 第17-19页 |
| ·分子动力学研究阳极键合的氧化过程 | 第19-21页 |
| ·研究目标、内容及章节安排 | 第21-22页 |
| ·研究目标 | 第21页 |
| ·研究内容 | 第21页 |
| ·章节安排 | 第21-22页 |
| 第2章 拉曼光谱法测阳极键合应力的实验方法研究 | 第22-35页 |
| ·拉曼光谱简介 | 第22-24页 |
| ·拉曼散射 | 第22-23页 |
| ·拉曼光谱谱线 | 第23-24页 |
| ·拉曼光谱测量应力的基本理论 | 第24-27页 |
| ·晶格动力学方程 | 第24-25页 |
| ·单晶硅的拉曼频移与应力 | 第25-26页 |
| ·拉曼光谱测应力的相关技术问题 | 第26-27页 |
| ·阳极键合实验过程 | 第27-30页 |
| ·实验条件的选取 | 第27页 |
| ·实验材料 | 第27-28页 |
| ·实验材料的清洗 | 第28-29页 |
| ·阳极键合设备及工艺 | 第29-30页 |
| ·拉曼光谱应力测量过程与结果讨论 | 第30-34页 |
| ·共聚焦显微拉曼光谱仪介绍 | 第30页 |
| ·拉曼光谱力学测量的主要流程 | 第30-32页 |
| ·实验结果及分析 | 第32-34页 |
| ·本章小节 | 第34-35页 |
| 第3章 原位拉曼光谱法研究阳极键合 | 第35-53页 |
| ·原位阳极键合装置的研制 | 第35-41页 |
| ·原位阳极键合装置的结构设计 | 第36-39页 |
| ·原位阳极键合装置的调试 | 第39-41页 |
| ·原位拉曼阳极键合实验过程 | 第41-43页 |
| ·原位拉曼阳极键合设备条件参数的选定 | 第41-42页 |
| ·原位阳极键合拉曼信号采集过程 | 第42-43页 |
| ·原位阳极键合结果与讨论 | 第43-51页 |
| ·阳极键合状态量的监控结果 | 第43-44页 |
| ·升温过程拉曼信号测量结果与讨论 | 第44-45页 |
| ·通电过程拉曼信号测量结果与讨论 | 第45-46页 |
| ·降温过程拉曼信号测量结果与讨论 | 第46-48页 |
| ·拉曼光谱应力测试结果与有限元模拟的比较 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 第4章 分子动力学模拟阳极键合界面过程 | 第53-62页 |
| ·分子动力学模拟阳极键合界面结构的建模与分析 | 第53-57页 |
| ·阳极键合界面结构模型的建立 | 第53-54页 |
| ·模拟的具体方法 | 第54-55页 |
| ·阳极键合界面单晶硅应变量的估计方法 | 第55-57页 |
| ·分子动力学模拟结果与讨论 | 第57-61页 |
| ·阳极键合界面SiO_2形态的确定 | 第57-59页 |
| ·阳极键合界面氧化动力学的探讨 | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 第5章 总结与展望 | 第62-64页 |
| ·全文总结 | 第62页 |
| ·创新点 | 第62-63页 |
| ·建议与展望 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读硕士学位期间的科研情况 | 第70页 |
