等离子体CVD法制备氮化碳涂层的理论与实验研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 注释表 | 第11-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-22页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·氮化碳的结构与性质 | 第12-15页 |
| ·氮化碳的结构 | 第12-14页 |
| ·氮化碳的性质 | 第14-15页 |
| ·氮化碳的制备方法 | 第15-18页 |
| ·氮化碳的制备方法 | 第15-18页 |
| ·等离子体CVD法制备氮化碳涂层的国内外研究进展 | 第18-21页 |
| ·等离子体简介 | 第18页 |
| ·等离子体CVD法制备氮化碳涂层进展 | 第18-20页 |
| ·存在的问题 | 第20-21页 |
| ·本文的研究内容及技术路线 | 第21-22页 |
| 第二章 N_2、N与基底原子吸附的第一性原理计算 | 第22-34页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·第一性原理计算基本介绍 | 第22-24页 |
| ·计算过程 | 第24-25页 |
| ·在金刚石表面的吸附计算 | 第25-29页 |
| ·吸附能计算 | 第25-26页 |
| ·态密度分析 | 第26-29页 |
| ·在硬质合金表面的吸附计算 | 第29-33页 |
| ·吸附能计算 | 第29-31页 |
| ·态密度分析 | 第31-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 晶体氮化碳沉积过程机理及影响因素分析 | 第34-43页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·过程机理探讨 | 第34-37页 |
| ·气体氛围的改变对等离子体喷射设备通电功率的影响 | 第34-35页 |
| ·CVD法沉积氮化碳涂层的机理 | 第35-37页 |
| ·几种影响因素的讨论 | 第37-42页 |
| ·基底温度的作用 | 第37-38页 |
| ·碳源浓度的影响 | 第38-39页 |
| ·气压的影响 | 第39-41页 |
| ·碳源浓度、气压综合考虑 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 晶体氮化碳涂层的制备研究 | 第43-57页 |
| ·引言 | 第43页 |
| ·直流电弧等离子体喷射设备原理介绍 | 第43-44页 |
| ·现代表征手段简述 | 第44-45页 |
| ·金刚石过渡层上制备氮化碳研究 | 第45-50页 |
| ·实验条件 | 第45-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-50页 |
| ·硬质合金上制备氮化碳研究 | 第50-56页 |
| ·实验条件 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 总结与展望 | 第57-59页 |
| ·总结 | 第57-58页 |
| ·展望 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第65页 |
