用作OLED场发射阴极的金刚石薄膜的制备
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 目录 | 第8-10页 |
| 1 引言 | 第10-15页 |
| ·有机电致发光器件的特点及研究现状 | 第10-12页 |
| ·有机电致发光器件的特点 | 第10-11页 |
| ·研究现状 | 第11-12页 |
| ·OLED研究中存在的问题及解决办法 | 第12-13页 |
| ·本课题开题思想 | 第13-14页 |
| ·本论文的主要内容 | 第14-15页 |
| 2 理论基础及实验设备 | 第15-26页 |
| ·有机电致发光器件理论基础 | 第15-17页 |
| ·有机电致发光器件的结构 | 第15-16页 |
| ·有机电致发光器件的发光机理 | 第16-17页 |
| ·半导体内场发射理论 | 第17-19页 |
| ·金刚石薄膜简介 | 第19-21页 |
| ·实验设备简介 | 第21-26页 |
| 3 金刚石薄膜的制备 | 第26-43页 |
| ·衬底处理对金刚石生长情况的影响 | 第26-31页 |
| ·实验过程 | 第27-28页 |
| ·实验结果及分析 | 第28-31页 |
| ·不同形貌金刚石薄膜的制备 | 第31-38页 |
| ·实验过程 | 第32页 |
| ·实验结果及分析 | 第32-38页 |
| ·纳米金刚石的制备及性能测试 | 第38-42页 |
| ·纳米金刚石薄膜的制备 | 第39-41页 |
| ·纳米金刚石薄膜的场发射性能测试 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 4 新型片状纳米金刚石薄膜制备及生长机理研究 | 第43-53页 |
| ·高甲烷浓度下纳米金刚石膜的生长 | 第43-48页 |
| ·表征分析 | 第44-46页 |
| ·生长机理分析 | 第46-48页 |
| ·等离子体密度对纳米金刚石的影响 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 5 金刚石为阴极的OLED制备 | 第53-57页 |
| ·器件的结构和制备过程 | 第53-55页 |
| ·测试结果及分析 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 6 总结 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 个人简历及研究成果 | 第65页 |
