摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-10页 |
第一章 :绪论 | 第10-28页 |
·水滑石类化合物 | 第10-21页 |
·概述 | 第10页 |
·水滑石的结构和组成 | 第10-12页 |
·水滑石的性质 | 第12-13页 |
·水滑石的制备方法 | 第13-15页 |
·水滑石的应用 | 第15-17页 |
·水滑石薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
·水滑石薄膜的应用 | 第19-20页 |
·水滑石及水滑石薄膜的表征方法 | 第20-21页 |
·金属铜及铜的防护 | 第21-24页 |
·概述 | 第21页 |
·铜的腐蚀类型及影响因素 | 第21-22页 |
·铜在海水中的腐蚀机理 | 第22页 |
·常见的金属铜防护方法 | 第22-23页 |
·铜缓蚀剂的研究进展 | 第23-24页 |
·水滑石薄膜作为防腐材料的研究进展 | 第24-27页 |
·物理混合法 | 第24-25页 |
·化学浴氧化法 | 第25页 |
·旋转涂膜法 | 第25页 |
·胶体沉积法 | 第25-26页 |
·原位生长法 | 第26-27页 |
·论文研究的主要内容 | 第27-28页 |
第二章 :在半胱氨酸修饰的铜表面制备 LDHs 薄膜及其缓蚀性能研究 | 第28-40页 |
·实验部分 | 第29-32页 |
·仪器 | 第29-30页 |
·试剂 | 第30页 |
·实验方法 | 第30-32页 |
·MgAl-LDHs 的制备 | 第30-31页 |
·半胱氨酸溶液的制备 | 第31页 |
·基底的预处理 | 第31页 |
·自组装法在铜表面制备Cys修饰薄膜 | 第31页 |
·胶体沉积法制备MgAl-LDHs薄膜 | 第31-32页 |
·在铜表面制备 Cys/LDHs 薄膜 | 第32页 |
·样品表征 | 第32页 |
·Cys/LDHs薄膜的缓蚀性能测试 | 第32页 |
·结果与讨论 | 第32-39页 |
·电化学阻抗谱分析 | 第32-37页 |
·极化曲线分析 | 第37-39页 |
·本章小结 | 第39-40页 |
第三章 :水热法在铜表面原位合成 LDHs 薄膜及其缓蚀性能研究 | 第40-46页 |
·实验部分 | 第40-42页 |
·仪器 | 第40-41页 |
·试剂 | 第41页 |
·实验方法 | 第41-42页 |
·基底的预处理 | 第41页 |
·在铜表面沉积纳米铜 | 第41-42页 |
·水热法制备CuZnAl-LDHs 薄膜 | 第42页 |
·样品表征 | 第42-43页 |
·LDHs 薄膜的结构及形貌表征 | 第42页 |
·LDHs 薄膜的缓蚀性能测试 | 第42-43页 |
·结果与讨论 | 第43-45页 |
·CuZnl-LDHs 薄膜的晶相结构 | 第43页 |
·CuZnAl-LDHs 薄膜的形貌 | 第43-44页 |
·CuZnAl-LDHs 薄膜的缓蚀性能 | 第44-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第四章 :电化学沉积法在铜表面制备 LDHs 薄膜及其缓蚀性能研究 | 第46-60页 |
·实验部分 | 第46-48页 |
·仪器 | 第46-47页 |
·试剂 | 第47页 |
·实验方法 | 第47-48页 |
·基底的预处理 | 第47页 |
·电化学沉积法制备 ZnAl-LDHs 薄膜 | 第47-48页 |
·样品表征 | 第48页 |
·LDHs 薄膜的结构及形貌表征 | 第48页 |
·LDHs 薄膜的缓蚀性能测试 | 第48页 |
·结果与讨论 | 第48-59页 |
·ZnAl-LDHs 薄膜制备条件的优化 | 第48-52页 |
·沉积电势对 ZnAl-LDHs 物相的影响 | 第48-49页 |
·pH 值对 ZnAl-LDHs 物相的影响 | 第49-50页 |
·Zn~(2+)/Al~(3+)对 ZnAl-LDHs 物相的影响 | 第50-52页 |
·ZnAl-LDHs 薄膜的结构及形貌 | 第52-55页 |
·ZnAl-LDHs薄膜的XRD表征 | 第52-53页 |
·ZnAl-LDHs薄膜的SEM及EDS分析 | 第53-55页 |
·沉积时间对ZnAl-LDHs薄膜缓蚀性能的影响分析 | 第55-57页 |
·电化学阻抗谱分析 | 第55-56页 |
·极化曲线分析 | 第56-57页 |
·ZnAl-LDHs薄膜在3.5%NaCl溶液中的浸泡实验 | 第57-59页 |
·本章小结 | 第59-60页 |
结论 | 第60-61页 |
参考文献 | 第61-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
攻读硕士学位期间已发表或待发的学术论文目录 | 第71-72页 |