离子镀膜机真空机组设计及涂层工艺研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1. 绪论 | 第8-19页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·薄膜技术 | 第9-12页 |
| ·薄膜的形成过程 | 第9-10页 |
| ·薄膜的生长方式 | 第10-11页 |
| ·影响薄膜生长的因素 | 第11-12页 |
| ·磁控溅射离子镀技术 | 第12-16页 |
| ·磁控溅射离子镀设备 | 第12-13页 |
| ·磁控溅射离子镀的原理 | 第13-14页 |
| ·磁控溅射离子镀的特点 | 第14-15页 |
| ·磁控溅射离子镀的发展和应用 | 第15-16页 |
| ·TiAlN 薄膜的结构性能及应用 | 第16页 |
| ·本课题研究的目的及意义、内容和技术路线 | 第16-19页 |
| ·研究的目的及意义 | 第16-17页 |
| ·研究的内容 | 第17-18页 |
| ·研究技术路线 | 第18-19页 |
| 2 离子镀镀膜机真空机组的设计 | 第19-35页 |
| ·真空技术 | 第19-23页 |
| ·真空的基本概念 | 第19-20页 |
| ·真空中气体分子运动理论 | 第20-23页 |
| ·真空获得设备 | 第23-26页 |
| ·低中真空获得设备 | 第24-25页 |
| ·高真空获得设备 | 第25-26页 |
| ·镀膜机真空机组设计方案及计算 | 第26-35页 |
| ·技术要求 | 第26页 |
| ·主泵的选取 | 第26-31页 |
| ·前级真空泵的选用 | 第31页 |
| ·计算抽气时间 | 第31-32页 |
| ·真空测量设备以及阀门的选用 | 第32-33页 |
| ·真空机组的工作过程 | 第33页 |
| ·真空机组结构 | 第33-35页 |
| 3 TiAlN 薄膜的制备及结果分析 | 第35-55页 |
| ·实验设备及材料 | 第35-36页 |
| ·实验设备 | 第35-36页 |
| ·实验材料 | 第36页 |
| ·镀膜工艺流程及参数设置 | 第36-38页 |
| ·基体试样的预处理 | 第36-37页 |
| ·实验工艺流程 | 第37页 |
| ·实验工艺参数 | 第37-38页 |
| ·TiAlN 薄膜性能测试及分析 | 第38-55页 |
| ·薄膜外观颜色观察 | 第38-39页 |
| ·薄膜的金相观察 | 第39-40页 |
| ·薄膜增重情况和薄膜厚度 | 第40-42页 |
| ·薄膜的显微硬度 | 第42-44页 |
| ·薄膜的结合力测定及分析 | 第44-48页 |
| ·薄膜的 XRD 检测及分析 | 第48-51页 |
| ·断口形貌检测及分析 | 第51-53页 |
| ·膜层能谱检测及分析 | 第53-55页 |
| 4. 总结 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及科研成果 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
