镁合金微弧氧化硅酸盐系电解液衰变过程和失效机理研究
| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-18页 |
| ·镁合金的特性及表面处理技术 | 第11页 |
| ·微弧氧化技术 | 第11-13页 |
| ·微弧氧化技术原理 | 第11-12页 |
| ·微弧氧化技术特点 | 第12页 |
| ·微弧氧化技术应用 | 第12-13页 |
| ·微弧氧化技术发展中存在问题 | 第13-14页 |
| ·微弧氧化电解液衰变过程的研究现状 | 第14-16页 |
| ·微弧氧化电解液衰变过程中膜层和电解液的变化 | 第14页 |
| ·微弧氧化电解液衰变对电导率影响 | 第14页 |
| ·微弧氧化电解液衰变对电解液中离子传质影响 | 第14-15页 |
| ·电解液的组分对微弧氧化电解液衰变的影响 | 第15页 |
| ·微弧氧化电解液寿命的研究 | 第15-16页 |
| ·微弧氧化电解液在不同环境中的衰变 | 第16页 |
| ·课题的意义及目的 | 第16页 |
| ·课题的主要研究内容 | 第16-17页 |
| ·课题的创新性 | 第17-18页 |
| 第2章 硅酸盐系电解液的衰变对微弧氧化膜层的影响 | 第18-30页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·实验部分 | 第18-19页 |
| ·实验材料及试样制备 | 第18页 |
| ·实验方法 | 第18-19页 |
| ·结果与讨论 | 第19-29页 |
| ·膜层的宏观变化 | 第19-20页 |
| ·膜厚变化 | 第20-21页 |
| ·膜层的表面形貌 | 第21-22页 |
| ·膜层表面的元素分布 | 第22-25页 |
| ·膜层的物相 | 第25-26页 |
| ·膜层的耐蚀性 | 第26-29页 |
| ·小结 | 第29-30页 |
| 第3章 硅酸盐系微弧氧化电解液衰变过程的研究 | 第30-56页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验部分 | 第30-42页 |
| ·微弧氧化处理 | 第30页 |
| ·电解液中滤液的分析方法 | 第30-40页 |
| ·电解液中滤液的分析前处理 | 第30-31页 |
| ·滤液中硅酸根测定 | 第31-34页 |
| ·滤液中氟离子测定 | 第34-36页 |
| ·滤液中氢氧根和电导率测定 | 第36-37页 |
| ·镁和铝定量分析 | 第37-40页 |
| ·电解液的离子总量的评价方法 | 第40-41页 |
| ·电导率 | 第40页 |
| ·盐度 | 第40页 |
| ·溶解性总固体 | 第40页 |
| ·离子强度 | 第40-41页 |
| ·电解液中沉淀物的分析方法 | 第41-42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-54页 |
| ·电解液的状态 | 第42页 |
| ·电解液的起弧电压 | 第42-44页 |
| ·电解液的滤液中原有离子浓度变化 | 第44-47页 |
| ·滤液中硅酸根离子浓度 | 第44页 |
| ·滤液中氢氧根离子浓度 | 第44-46页 |
| ·滤液中氟离子浓度 | 第46-47页 |
| ·迁移到电解液中的镁铝含量的变化 | 第47-48页 |
| ·电解液中离子总量变化 | 第48-50页 |
| ·电解液中沉淀物分析 | 第50-54页 |
| ·沉淀物的质量和元素含量 | 第50-51页 |
| ·沉淀物中的物相组成 | 第51-52页 |
| ·沉淀物中的化合物组成 | 第52-54页 |
| ·小结 | 第54-56页 |
| 第4章 硅酸盐系微弧氧化电解液的失效机理 | 第56-64页 |
| ·引言 | 第56页 |
| ·电解液的温度变 | 第56-57页 |
| ·沉淀物和胶体在电解液中的分散度 | 第57-58页 |
| ·电解液中离子间的反应及其生成物的作用 | 第58-62页 |
| ·胶体形成及其作用 | 第58-59页 |
| ·铝硅的复杂反应 | 第59-61页 |
| ·铝离子与氟离子关系 | 第61-62页 |
| ·镁离子同其它离子的关系 | 第62页 |
| ·其它离子相互作用 | 第62页 |
| ·外部环境影响 | 第62页 |
| ·小结 | 第62-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第70页 |
