| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-15页 |
| ·目的与意义 | 第8-10页 |
| ·国内外研究现状综述 | 第10-13页 |
| ·小结 | 第13-15页 |
| 2 垂直碳纳米管与铜间键合工艺研究 | 第15-36页 |
| ·垂直碳纳米管阵列制备 | 第15-20页 |
| ·键合基底制备 | 第20页 |
| ·碳纳米管转移 | 第20-21页 |
| ·垂直碳纳米管与铜基底间键合工艺流程 | 第21-22页 |
| ·垂直碳纳米管热压键合工艺研究 | 第22-30页 |
| ·垂直碳纳米管感应加热键合工艺研究 | 第30-34页 |
| ·小结 | 第34-36页 |
| 3 碳纳米管与铜间水平键合工艺研究 | 第36-57页 |
| ·碳纳米管纯化与切断 | 第36-38页 |
| ·碳纳米管低浓度悬浊液制备 | 第38-39页 |
| ·电极制作工艺 | 第39-50页 |
| ·碳纳米管定向 | 第50-52页 |
| ·水平定向碳纳米管键合工艺 | 第52-53页 |
| ·碳纳米管水平键合结果 | 第53-54页 |
| ·碳纳米管水平键合性能测试 | 第54-55页 |
| ·小结 | 第55-57页 |
| 4 结论 | 第57-59页 |
| ·总结 | 第57页 |
| ·工作展望 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 附录 1 攻读硕士学位期间科研成果 | 第65页 |