Fabry-Perot薄膜滤波器薄膜光学特性的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·基于 F-P 结构的热光可调谐薄膜滤波器 | 第8-14页 |
| ·研究意义 | 第8-9页 |
| ·基本原理 | 第9-12页 |
| ·研究进展 | 第12-14页 |
| ·本文研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 非晶硅薄膜研究的基础理论 | 第16-30页 |
| ·非晶硅薄膜工艺的研究意义 | 第16-20页 |
| ·热光可调滤波器制作材料的选取 | 第16-18页 |
| ·非晶硅薄膜的结构与性质 | 第18-19页 |
| ·非晶硅薄膜的研究概况与意义 | 第19-20页 |
| ·薄膜沉积系统 | 第20-25页 |
| ·非晶硅薄膜制备方法 | 第20页 |
| ·PECVD 法薄膜沉积原理 | 第20-23页 |
| ·PECVD 实验设备 | 第23页 |
| ·薄膜的反应沉积机理 | 第23-25页 |
| ·实验设计 | 第25-27页 |
| ·衬底选取与预处理 | 第25-26页 |
| ·具体实验步骤 | 第26页 |
| ·实验工艺参数的选取 | 第26-27页 |
| ·实验测试设备 | 第27-30页 |
| ·椭圆偏振光谱仪 | 第27页 |
| ·金相显微镜 | 第27-28页 |
| ·傅里叶红外光谱仪 | 第28-30页 |
| 第三章 制备工艺参数对非晶硅薄膜性能的影响 | 第30-47页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·主要实验参数对沉积薄膜性能的影响 | 第31-42页 |
| ·射频功率的影响 | 第31-33页 |
| ·衬底温度的影响 | 第33-36页 |
| ·沉积压强的影响 | 第36-38页 |
| ·气体温度的影响 | 第38-40页 |
| ·沉积时间的影响 | 第40-42页 |
| ·薄膜结构与折射率的关系 | 第42-47页 |
| 第四章 不同衬底对薄膜性能的影响 | 第47-53页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·不同衬底的性能 | 第47-49页 |
| ·衬底对非晶硅薄膜性能的影响 | 第49-53页 |
| 第五章 掺杂对非晶硅薄膜性能的影响 | 第53-60页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·掺杂薄膜的光学模型选择 | 第54-55页 |
| ·掺杂后薄膜的性能改变 | 第55-60页 |
| 第六章 退火热处理对非晶硅薄膜性能的影响 | 第60-70页 |
| ·引言 | 第60-61页 |
| ·退火热处理的设备 | 第61页 |
| ·退火热处理对薄膜性能的影响 | 第61-70页 |
| 第七章 总结 | 第70-72页 |
| ·本文完成的工作 | 第70页 |
| ·本文展望 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-77页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第77-78页 |
